中古 KLA / TENCOR eS31 #293609359 を販売中

KLA/TENCOR eS31は、5nm以上の解像度を提供するマスクおよびウェーハ検査に使用される高度な装置です。半導体ウェーハの感光特性を非接触で非破壊検査し、歩留まり向上と生産管理を実現します。このシステムは「散乱計」と呼ばれる独自の技術で動作します。この手法を用いて、試料表面からインシデント光を散乱させ、検出された逆散乱光を解析します。KLA eS31は、LSP （Laser Scatterometry Profiles）を使用して、さまざまな表面における地形測定を提供します。このユニットは、ラインエッジの粗さ、接触穴、コーナー半径など、最小の機能でも検出できます。独自の技術により、3Dウエハレベルのマッピングや膜厚測定も可能です。TENCOR eS31マシンは、フォトレジスト、二酸化ケイ素、窒化ケイ素など、マイクロエレクトロニクス業界で一般的に使用されるさまざまな材料を分析することができます。このツールは超高速検出時間で設計されており、迅速なターンアラウンドが必要なアプリケーションに最適です。さらに、このアセットは自動化されており、ユーザーは素早くデータをセットアップして取得することができます。このマシンのソフトウェアは、統合されたスキャンモードを提供しています。これにより、ユーザーは、将来の参照のためにサイズ測定を保存および追跡する自動フィーチャー検出アルゴリズムを使用して、異なるサイズの複数のウェーハを同時に分析することができます。さらに、このモデルには一連のプロセス制御機能が含まれており、ユーザーは測定設定をカスタマイズしたり、統計データを表示および分析したりすることができます。ES31は、光源モジュール、計測ステージ、熱画像モジュール、AuroCleanモジュール、NuFlats機器、SQAモジュール、およびさまざまなメディアおよびフィルタタイプなどの幅広いアクセサリとシステムを提供しています。これらのアクセサリーとシステムにより、KLA/TENCOR eS31は特定の顧客要件に応じてカスタマイズされ、ユーザーは常に最も効率的で信頼性の高い結果を得ることができます。全体として、KLA eS31は、マスクとウェーハの検査を容易にし、改善するために特別に設計された非常に高度なシステムです。5nm以上の解像度で非接触、非破壊検査を提供し、さまざまな材料をスキャンして分析することができます。自動化されたユニット、統合されたスキャンモード、カスタマイズ可能な測定設定を備えたTENCOR eS31マシンは、半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。