中古 KLA / TENCOR eS31 #293606035 を販売中

KLA/TENCOR eS31は、半導体デバイス製造のためのマスクおよびウェハ検査装置です。ウェーハレベルの欠陥検査とウェーハ全体のデバイス特性の監視を提供します。KLA eS31は、2Dおよび3Dイメージング機能を備えており、ウェーハ表面の微細構造、リソグラフィー誤差、プロセスステップ、欠陥、および粒子汚染を検出します。TENCOR eS31は、高速かつ正確な欠陥検出を実行するように設計されており、1時間あたり最大600ウェーハの高スループットを実現しています。KLA TrueFourierTM 3Dイメージング技術と最適化されたソースターゲット構成を組み合わせ、複数のマスクおよびウェーハレイヤーにまたがるデバイスの欠陥をキャプチャします。これにより、異なるレイヤーで発生した場合でも、システムはあらゆる欠陥を正確に検出できます。このユニットの高感度により、サブセグメントおよびセグメントの欠陥を検出し、エッジ間の欠陥検索を可能にします。このアルゴリズムを使用することで、マスク欠陥とウェーハ欠陥の両方を検出することができ、収集されたデータを使用して、プレパターン欠陥とポストパターニング欠陥フィードバックの両方を提供し、プロセス性能を向上させることができます。このツールはまた、ウエハ全体で個々のウエハを識別して分析することができる独自のウエハマッピング技術を備えています。これにより、異なるウェーハ間の欠陥カバレッジと相関関係が改善され、オペレータはより簡単に問題領域を特定できます。また、ES31は自動ウェーハ処理アセットを備えており、一度に最大4つのウェーハを処理できます。このモデルには、現場での測定プラットフォームも組み込まれており、リアルタイムのデータと分析を提供し、タイムリーなプロセスの最適化とトラブルシューティングを可能にします。KLA/TENCOR eS31は、マスクおよびウェーハ検査用のワンストップソリューションであり、迅速、正確、包括的な欠陥検出を提供します。自動化されたウェーハ処理機能により、大量のウェーハを迅速に検査でき、包括的なデータ分析機能により、詳細な欠陥分析とレポート作成が可能になります。KLA eS31は、さまざまな高度なイメージングおよびデータ収集機能を組み込むことにより、信頼性と正確な欠陥検出、効率的な機器操作、およびプロセスと製品性能の向上を提供します。