中古 KLA / TENCOR eS31 #191476 を販売中

ID: 191476
ヴィンテージ: 2006
Wafer inspection system SMIF Currently installed 2006 vintage.
KLA/TENCOR eS31は、マスクおよびウェーハプロセスの高度な計測およびプロセス制御アプリケーション用に特別に設計された、完全に自動化された高解像度の検査装置です。このシステムは、ウェーハ欠陥のレビューと分類、マスクパターン検査、ウェーハデータ分析など、さまざまな重要な機能を実行します。このユニットは、プロセスの安定性、プロセスの一貫性、欠陥特性、欠陥分類に関する詳細な情報をアナリストに提供します。KLA eS31は、高解像度の画像とデータ分析を実現する革新的な設計を使用しています。複数のイメージングと分光技術を組み合わせて、ウェーハとマスク表面の秘密を解き明かします。統合された顕微鏡マシンは、その高度な照明、画像収集、分析機能を通じてナノスケールの特徴を検出し、測定することができます、分光ツールは、原料から完成品までのスペクトルデータを定量化することができます。このアセットには高速オートローダーが装備されており、ユーザーは手動で介入する必要がなく、ウェーハやマスクを迅速かつ安全にロードおよびアンロードすることができます。TENCOR eS31は複数の検査モードを備えており、欠陥固有、エリア固有、全面スキャンなど、さまざまな検査要件に対応しています。また、高度なパターン認識機能を備えており、微妙なパターン欠陥や誤認識を検出することができます。ES31は、自動化されたデータ分析とレポート機能を提供します。この装置は、ウェーハおよびマスクプロセスの安定性と一貫性を定義するのに役立つ明確で実用的なレポートを生成し、欠陥の特性とその潜在的な根本原因を定量化することができます。システムを使用して製品品質レポートを生成し、機械とプロセスの両方のパフォーマンスを文書化することもできます。KLA/TENCOR eS31は、ウェーハおよびマスクプロセスを監視するための理想的なツールです。高速、高分解能の光学系とデータ解析機能により、ウェーハ欠陥やマスクパターンの自動検出と分類が可能です。機械の使いやすさ、高速ロード速度、強力なデータ分析およびレポート機能により、KLA eS31完全な欠陥検出およびプロセス制御ソリューションの不可欠な部分となります。
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