中古 KLA / TENCOR eS30 #9258336 を販売中

KLA/TENCOR eS30は、半導体製造プロセスで使用される特殊なマスクおよびウェハ検査システムです。業界をリードするレポート機能と歩留まり制御を提供するように設計されたeS30maskおよびウェーハ検査システムは、堅牢でミニファブレベルのソリューションです。KLA eS30は光学計測システムと電気計測システムを組み合わせることができ、正確なデータを迅速かつ確実に提供することができます。これには、微粒子ジオメトリの詳細をキャプチャする高度なイメージング技術と、パターンまたは欠陥ソースを識別する高度なパター認識機能が含まれます。TENCOR eS30は、12インチスクエアマスクから25インチスクエアウェーハまで、さまざまな基板やマスクに対応できます。自動アライメント技術を搭載し、マスクやウェーハの正確な配置を可能な限り最高の精度で大量生産を実現します。自動スキャン機能に加えて、eS30は究極のトレーサビリティを実現する包括的なレポート機能を提供します。これには、検出された欠陥がソースに割り当てられ、本質的な欠陥のレベルまで報告される詳細な欠陥レポートが含まれます。次に、このトレーサビリティデータを使用して、プロセスの傾向を追跡し、歩留まり指標を測定し、com［は平面データに対するファウンドリ指標です。さらに、KLA/TENCOR eS30を使用すると、特定の欠陥やパターンを選択して「データ管理」モードで観察または分析することができます。計測の面では、KLA eS30は、フラットグレインまたはオーバーレイ構造の両方のタイプの表面構造を測定することができます。高度なパターン認識機能によって補完され、パターン情報の正確な可視化と分析が可能になります。これには、3Dパターニングや不均一などのあらゆる種類の非理想プロセスの検出が含まれます。TENCOR eS30では、周辺ゾーンの欠陥やウェーハクリーニングのイメージングおよび分類機能も提供しています。eS30は、マスクとウェーハレイヤーを検査および検証するための包括的な機能と機能を提供します。このシステムは、検出と分析を改善し、プロセスとパフォーマンスを完全に把握するのに最適です。これにより、製造と組立が最高の歩留まりでスムーズかつ効率的に実行され、製品の品質と信頼性が保証されます。