中古 KLA / TENCOR es20 #9198565 を販売中

KLA / TENCOR es20
ID: 9198565
E-Beam defect inspection system.
KLA/TENCOR es20は、半導体業界で使用されるマスクおよびウェハ検査装置です。フォトマスクやウェーハの高解像度、高速、自動検査を精度と再現性で提供します。KLA es20モデルは、KLA人気のes10ユニットのアップグレードであり、業界で最も要求の厳しいマスクおよびウェーハ検査ニーズを満たすように設計されています。このマシンは、100mm、 200mm、 300mmのウエハに対応できる固定視野光プロジェクションコラムを備えています。このツールには、フレームあたり12。3メガピクセルの解像度でウェーハから画像をキャプチャする高性能CCDカメラも装備されています。検査中のマスクやウェーハの反射光を集めるために、ウェーハは赤色のLEDで照らされます。アセットには、プログラム可能な欠陥モード、自動アライメントモデル、フォーカス検出装置などの多くのツールも含まれています。検査システムは、マスクまたはウェーハ上の欠陥を識別および分類するために、さまざまなソフトウェアアルゴリズムを利用しています。これには、マスクやウェーハ表面の粒子や結晶を検出するための分光法が含まれます。このユニットは、単線欠陥と多線欠陥を区別するだけでなく、表面下の欠陥を検出することもできます。TENCOR es20モデルは、傷やピットなどのウェーハやデバイスレベルの欠陥、ピンホール、ボイド、粒子などの歩留まりに影響を与える機能など、迅速かつ信頼性の高い欠陥検出用に設計されています。さらに、このマシンには、取得したデータをさまざまな方法で分析および処理できるさまざまなフィルターとツールが装備されています。これには、画像処理を使用して画像を強化し、欠陥を特定し、3D画像を生成して欠陥のないマスクやウェーハを描画する機能が含まれます。全体として、es20マスクおよびウェーハ検査ツールは、重要なマスクおよびウェーハ検査ニーズに対応する革新的で先進的なソリューションです。このアセットは、高度な画像キャプチャ技術、ソフトウェアアルゴリズム、およびさまざまなツールを組み合わせているため、欠陥を迅速かつ信頼性の高い方法で識別および評価するのに理想的です。KLA/TENCOR es20モデルは、高解像度、高精度、自動検査技術、および迅速な欠陥検出機能を備えており、マスクおよびウェハ検査を最高レベルに引き上げたい半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。
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