中古 KLA / TENCOR es20 #9093683 を販売中

KLA/TENCOR es20は、シリコンウェーハの欠陥を検出するために使用できるマスクおよびウェーハ検査装置です。高解像度イメージセンサーと自動欠陥分類により、KLA es20は非常に小さな欠陥でも正確に検出できます。このシステムは、ブライトフィールド照明とイメージセンサーを使用して、ウェーハとその欠陥の白色光の画像をキャプチャします。これらの画像は欠陥分類エンジンによって処理され、誤った正の欠陥検出を除去し、各欠陥に分類タイプを割り当てます。このユニットは、CD、高さ、ドーパント、粒子欠陥などの幅広い欠陥タイプを検出できる特許取得済みの欠陥分類エンジンを備えています。TENCOR es20は、1600x1200解像度のCCDイメージセンサーを備えた8インチウェハハンドリングマシンを採用しています。このイメージセンサは、0。39の最適な数値開きと0。04マイクロメートルのピクセルサイズを備え、9マイクロメートルの画像解像度を提供します。欠陥分類エンジンは、高度なアルゴリズムとパターン認識技術の組み合わせを使用して、欠陥を正確に識別し、分類タイプを割り当てます。そのリアルタイム機能により、ユーザーは欠陥の実際の構造を識別することができ、欠陥の分類を高速化できます。Es20はまた、検出された欠陥を自動的に修復することができる高度なマスクレス修復（AMR）技術を備えています。このツールは、フォーカスイオンビーム（FIB）を使用して欠陥を除去し、高価なマスクセットを必要とせずに自動欠陥修復を可能にします。KLA/TENCOR es20は、既存の生産ラインに組み込む柔軟性を備えています。この資産は、表示、制御、通信、計測データなど、多くのプロセスデータ入力を利用しています。これにより、オペレータはモデルパラメータを簡単に設定し、さまざまな欠陥条件やウェーハ構成に合わせて操作をカスタマイズできます。要するに、KLA es20は、高解像度イメージセンサーと自動欠陥分類エンジンで小さな欠陥を検出することができる強力なマスクおよびウェーハ検査装置です。AMR技術などの高度な機能により、ユーザーは高価なマスクセットを必要とせずに検出された欠陥を自動的に修復できます。既存の生産ラインに組み込む柔軟性は、多くの半導体メーカーにとっても理想的な選択肢です。