中古 KLA / TENCOR EFEM #9276743 を販売中

KLA/TENCOR EFEMは、半導体デバイス製造に使用される感光性クォーツマスクの製造検査要件を処理するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。マスクやウェーハ上の粒子や異物などの欠陥を識別するために、明るいフィールド、暗いフィールド、DPD （Digital Path Difference）イメージングなどの独自の高度な検査技術を使用しており、両者の微妙な違いを正確に測定することができます。KLA EFEMシステムは、近紫外光源に可視化され、目的、拡大鏡、ピンホール、フィデューシャルマーカーなどのさまざまな光学インタフェースで構成することができ、細かい解像度で直径25cmまでのマスクとウェーハを検査することができます。また、欠陥認識と欠陥マーキング機能も備えており、迅速な欠陥評価と分析を可能にします。さらに、最適な検査輝度の選択、自動フォーカシング、欠陥画像の表示など、さまざまな作業に対応できる柔軟なソフトウェアパッケージを備えています。TENCOR EFEMマシンは、高精度を提供しながらコストを抑えるように設計されています。複数の技術を駆使して検査能力をさらに高め、個々の欠陥のサイズ、形状、位置情報をキャプチャする高速光分光計を搭載しています。さらに、欠陥データをさらに処理して誤った欠陥と実際の欠陥を分離することができる自動ツールで構成することができ、最も効果的な生産データの流れを可能にします。EFEMは、ダイツダイ検査機能、汎用性とユーザーフレンドリーな資産、および最先端の画像処理機能を提供し、細部まで欠陥の自動解析を可能にします。シングルウェーハと両面ウェーハの両方で検査を行うことができ、幅広い特殊校正および校正フィールドサイズで構成することができます。このモデルは、エッチングや計測システムなどの他の製造装置との統合も可能であり、自動比較と欠陥認識を可能にします。全体として、KLA/TENCOR EFEMは、コストと労力を最小限に抑えて高精度な結果を提供するように設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。直径25cmまでの様々なクォーツマスクやウェーハの検査が可能で、欠陥を素早く分析するための自動化機能を内蔵しています。