中古 KLA / TENCOR eDR-5210 #9278890 を販売中

KLA/TENCOR eDR-5210は、高度な半導体デバイスを検査するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、デバイスの特徴、欠陥などの特性を適切に測定するための高度なイメージングおよび分析技術と組み合わせた多目的な検査機能を提供します。このユニットは、均一なウェーハトポグラフィのためのほとんどの業界規模の要件に対応できる二軸ウェーハステージを備えています。また、4×4インチのM2.5 Field of Viewも搭載し、0。55 µm × 0。55 µmピクセルサイズです。HADL （High Accuracy Defect Location）技術を使用しており、360度の視野で0。3 µm未満の欠陥を検出できる高解像度の高精度イメージング技術です。このツールには、均一性を向上させるためのインテリジェントスキャンパターアルゴリズム（ISPA）も含まれています。ISPAは、プロセス変数と材料組成、バッチプロセスパラメータ、仕様設定に基づいて、欠陥を自動的に検出し、特定の欠陥限界を強制するように設計されています。さらに、独自のパーティクル識別（UPI）技術を含む独自のインテリジェント表面解析（ISA）ツールを提供し、パーティクル、線幅、およびボイドを検出および特性評価します。このモデルは、LEDベースの3D照明、LEDベースの多面照明、サーチレス欠陥検出のための可変スポットサイズ（VSS）モード、およびエッジコントラスト改善のためのレーザー反射測定などの最新のイメージングおよび照明技術を採用しています。また、リアルタイムのデジタル画像処理を備えた強力な16ビットイメージプロセッサを提供し、欠陥と粒子情報を迅速に計算します。最後に、KLA eDR-5210は、KLA Desktop Explorer、 AOI Expressソフトウェア、AOI統合ソフトウェアの3つのソフトウェアパッケージを選択できます。これらのパッケージは、リアルタイムデータ解析、カスタムレポート生成、分析および監視、ウェーハおよびダイマッピング、およびパーティクルおよび欠陥追跡などの機能を提供します。さらに、この機器は高度なデータエクスポート機能を備えており、お客様はさまざまな外部測定および分析ツールにデータをエクスポートできます。TENCOR EDR 5210は、業界をリードする画像および分析機能を提供する高度で汎用性の高いマスクおよびウェーハ検査システムです。最先端の照明、イメージング、分析技術により、顧客はその検査結果が信頼性と正確であることを信頼することができます。このユニットは、高度な半導体デバイスおよび集積回路のデータ精度の向上と包括的な欠陥検出および解析のメリットを提供します。