中古 KLA / TENCOR eDR-5210 #9278887 を販売中

KLA/TENCOR eDR-5210は、半導体の製造に使用されるマスクおよびウェハ検査装置です。ウェーハの欠陥やマスクレベルの精密欠陥を検出し、分析するように設計されています。直径200mmまでのウェーハや、多種多様なマスクに対応可能です。本体には、光検査機、ウェハーマッピングステージ、デジタル画像認識アルゴリズム、統合計測コンソールなどがあります。光学検査ツールは、ウェーハ表面の画像をキャプチャする高解像度のハイパースペクトルイメージングアセットです。ウェハマッピングステージは、ウェハの表面を正確に測定できる多軸位置決めモデルです。画像認識アルゴリズムは、任意の欠陥を識別し、分類するために使用されます。最後に、統合された計測コンソールは、精度を確保するためのデータの最終的なレビューを提供します。KLA eDR-5210は、生産性を向上させるためのさまざまな高度な機能を備えています。さらに、装置は簡単な設置とメンテナンスのために設計されているため、半導体生産ラインに最適です。TENCOR EDR 5210は、マスク検査や欠陥解析から、リソグラフィーステンシルの検査およびレビューまで、幅広いアプリケーションを提供します。高品質で信頼性の高い画像キャプチャ機能により、マスクやウェーハの検査に最適です。システムは効率的で、正確な結果を提供します。画像認識アルゴリズムと計測コンソールも正確さを保証します。KLA EDR 5210は、半導体生産におけるマスクおよびウェーハの検査および分析に最適です。高精度の画像キャプチャとさまざまな高度な機能を備えた、今日の市場で最も信頼性の高いシステムの1つであり、最適な生産性のために強く推奨されています。