中古 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755074 を販売中

KLA/TENCOR eDR-5210は、フォトマスクの高精度分析のために設計された、0。08ミクロンの小さい特徴を測定するマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、レチクルとウェーハの両方を同時に検査することが可能であり、散乱計や光学顕微鏡などの高度な光学技術を利用して、1ミクロン未満の粒子を検出して識別します。光ファイバベースのユニットは、小さな倍率でも、マスクの非常に詳細な画像を生成することができます。さらに、トレンチ、ビア、スペースなどの重要なパターンの高解像度散乱測定を生成できます。また、加工ウェハの欠陥検査を行うことができ、表面欠陥と深度欠陥の両方を特定して定量化することができます。KLA eDR-5210は、石英からシリコンまでのさまざまな種類の材料を分析することができ、大型マスクとファインピッチマスクの両方で4倍のレチクル欠陥検出を正確に行うことができます。このツールには、大規模なデータセットを迅速かつ効率的に検査および測定し、自動欠陥解析を容易にする高度なソフトウェアが含まれています。この資産には、高速スキャンミラー、精密プロセス制御、分光光学モデル、信頼性の高い10kHzレーザー機器など、いくつかの重要な機能があります。これらのコンポーネントを組み合わせることで、機械は正確な画像を生成し、従来の方法よりも大きな解像度で欠陥を測定し、潜在的な間違いを迅速に特定して診断することができます。全体として、TENCOR EDR 5210は、さまざまな半導体製造アプリケーションに適した強力で高性能なマスクおよびウェハ検査システムです。高度な光学技術と堅牢なソフトウェアを組み合わせることで、欠陥を正確に検出して報告することができ、効率的でエラーのない製造に不可欠なツールとなります。