中古 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755073 を販売中

KLA/TENCOR eDR-5210は、3Dコヒーレント照明技術を活用したマスクおよびウェハ検査装置で、高精度の欠陥検出を実現します。このシステムは、半導体製造環境で使用されるように設計されており、幅広い検査能力を提供します。最先端のデバイスとレガシーデバイスの両方に適しており、製造および研究の両方に使用できます。このユニットは、大判レンズを装着した13メガピクセルのカラーCCDカメラで構成されています。これは、位置するデバイスの画像をキャプチャし、メインコントロールユニットに送信します。このマシンはユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスと直感的なセットアップオプションを備えており、オペレータは欠陥検査と測定のためのパラメータを素早く調整できます。また、画像のキャリブレーションと測定、欠陥の分類に関する強力な自動化機能も提供します。KLA eDR-5210には、統合された3Dコヒーレント照明ツールが装備されています。この機能は、特許取得済みの「MODLESS」スキャン技術を使用して、欠陥検出および解析機能を大幅に改善するように設計されています。さらに、同資産は、一貫した照明レベルを維持しながら位相と暗い画像を同時にキャプチャすることができます。このモデルには、精度を確保するための包括的な欠陥分類アルゴリズムも装備されています。これには、表面欠陥分類アルゴリズム、イメージングコントラスト強化技術、自動特性追跡と評価、輝度強化戦略、およびサブリゾリューション機能解析が含まれます。さらに、各欠陥画像には、欠陥カテゴリと欠陥重大度が割り当てられています。最後に、TENCOR EDR 5210装置は優れた柔軟性と拡張性を提供します。さまざまな種類のタスクに対応するように簡単に設定でき、カスタムソリューションのニーズに適応できます。さらに、データ管理、レポート作成、欠陥解析のための他のソフトウェアシステムと統合することができます。全体として、TENCOR eDR-5210は高度で高精度なマスクおよびウェーハ検査システムです。3Dコヒーレント照明と特許取得済みのMODLESSスキャン技術を活用し、優れた欠陥検出精度と信頼性を提供します。さらに、このユニットは、包括的な欠陥分類分析マシンと優れた柔軟性と拡張性を提供します。これにより、半導体産業の生産と研究の両方に最適です。