中古 KLA / TENCOR eDR-5210 #293639990 を販売中

ID: 293639990
Defect review Scanning Electron Microscope (SEM).
KLA/TENCOR eDR-5210は、半導体デバイスメーカーの要求に応えるように設計された高速、高精度のマスクおよびウェハ検査装置です。KLA eDR-5210は、KLAの最先端の画像処理技術を組み合わせ、あらゆるタイプのデバイスで正確な欠陥検出と正確なサイジングを保証する優れた性能と機能を提供します。このシステムは、TENCORフォトニックイメージングユニット(PIS)技術のバリアントを使用して、欠陥のサイズ、形状、特性を決定し、22 nmの小さな欠陥を検出できます。機械の中心にはデュアルイルミネータがあり、SIMS(走査型電子顕微鏡とイオンビーム)とeビームスルーウェハ(TW)の同時検査が可能です。高解像度光学系は、精度の向上、より細かい機能定義、優れたエッジ検出を可能にします。TENCOR EDR 5210は、自動欠陥検出(ADD)アルゴリズムも提供しており、迅速な分析を可能にし、困難で隠れた欠陥を検出することができます。さらに、TENCOR eDR-5210には高度なデータ共有、分析、レポート機能があり、オペレータ/インスペクターの意思決定のための迅速で質の高い欠陥分類を可能にします。このツールはまた、自動マッピングを提供し、高効率の生産チェックを可能にします。GUIと包括的なアプリケーションプログラミングインターフェイス(API)は、ホストコンピュータとのシームレスな統合を提供し、手間のかからない操作を可能にします。画質を保証するために、KLA/TENCOR EDR 5210は、高解像度画像を特徴とするウェハマップの合計15セットを保持することができます。これらの機能には、8ビットのデジタル出力機能、自動ステージ起源認識、および振動による画像シフトを低減するための防振絶縁板が含まれます。最後に、eDR-5210で発見された高度な技術と機能は、この資産が最高の性能基準を満たしていることを保証し、優れた欠陥検出を保証します。包括的な画像処理ツールと直感的な設計により、このモデルは半導体デバイスメーカーの高度なニーズに最適なソリューションです。
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