中古 KLA / TENCOR CRS 1010 #9382222 を販売中

KLA/TENCOR CRS 1010マスクおよびウェハ検査装置は、半導体製造プロセスに最適な自動光検査プラットフォームです。このシステムは、レーザーによる高度な共焦点画像技術に基づいており、マスクやウェーハ基板上の小さな構造の高速かつ高精度な画像処理を可能にします。KLA CRS 1010は、2メガピクセルのCMOSカメラと非常に高い倍率で画像をキャプチャし、検査するために使用される高出力レーザーを搭載しています。レーザーは、プリセット解像度に焦点を当てながら、最適な量の光を生成するために校正されます。レーザーは単位によって個別に追跡され、正しく動いていることを保障するために監視され、安全基準を超過しません。TENCOR CRS 1010は、単一のウエハ上で欠陥検査、汚染検出、粒子分析を行うことができます。このマシンにはパターン認識および分類アルゴリズムが装備されており、欠陥を迅速かつ正確に識別および分類するために使用できます。このツールはまた、マスク/ウェハ検査プロセス中に真の正負の分類とデータ分析のための検査パラメータと閾値を調整するために使用できる統合ソフトウェアを備えています。CRS 1010には独自のデータストレージと通信ソリューションも含まれており、マスク/ウェハ検査プロセス全体のハブとして機能します。既存のオペレーションやインフラにシームレスに統合することができ、独自の検査アルゴリズムと装置のソフトウェアライブラリを持つことができます。KLA/TENCOR CRS 1010は直感的なユーザーインターフェイスを備えているため、プログラムと利用が簡単です。また、さまざまな動作環境に適応できるように設計されており、包括的な計測パッケージも備えています。これにより、柔軟性と全体的なユーザビリティが向上し、複数のアプリケーションにすばやく適応できます。最後に、KLA CRS 1010は非常に低い偽コールレートを持っており、生産歩留まりの改善に大きく貢献しています。潜在的なヒューマンエラーを除去することにより、アセットは操作の均一性を高め、アングストロムレベルまでの欠陥を検出および修正できます。その結果、TENCOR CRS 1010は、マスクおよびウェーハ検査プロセスのための強力で信頼性の高いツールです。