中古 KLA / TENCOR CRS 1010 #51182 を販売中

KLA/TENCOR CRS 1010は、半導体製造に使用されるマスクおよびウェーハ検査装置で、フォトマスクおよびウェーハ基板における潜在的な計測誤差および光学的欠陥を特定します。このシステムは、高度な光学系と高精細デジタル処理機能を備えた高解像度のブライトフィールド/ダークフィールドイメージングユニットを使用して、各マスク/ウェハの欠陥を検査します。KLA CRS 1010は、最大24枚のマスクプレートまたはウェーハを同時に検査することができ、高速なスループットと高いスループット歩留まりを高精度かつ再現性で提供します。この装置のイメージングツールは、ブライトフィールドとダークフィールドの2つの検出器で構成されています。ブライトフィールド検出器は粒子欠陥を識別するように設計されていますが、ダークフィールド検出器は光学欠陥を検出するために使用されます。イメージング資産は様々な倍率で動作し、ユーザーは0.2µm以下の機能を検査することができます。このモデルの自動欠陥分類アルゴリスは、各欠陥の欠陥自動焦点と正確な測定により、粒子、ナノ構造および転位を認識し分類します。TENCOR CRS 1010には、検査機能を強化し、より良いプロセス制御を推進するためのさまざまな高度な機能が装備されています。高度なフィルター選択機能を備え、欠陥の正確な識別を可能にします。ユーザーはアプリケーションごとにフィルタ設定をカスタマイズでき、正確な欠陥識別のために独自のカラーパラメータを指定できます。このソフトウェアにより、ユーザーは独自のしきい値を定義し、欠陥ソートをカスタマイズすることもできます。さらに、バッチ検査機能を備えており、複数の基板を同時に検査することができます。CRS 1010システムは、信頼性と使いやすさを念頭に設計されています。安全でクローズドなループロボットワークロード処理と基板センタリングを利用して、正確なマスク/ウェーハの位置決めを保証し、サンプル損傷のリスクを低減します。さらに、サンプル搬送用のエアステージを内蔵しており、清潔でほこりのない検査環境を提供します。直感的なユーザーインターフェイスにより、ユーザーは素早く簡単にマシンをプログラムでき、迅速かつ正確なセットアップ、実行、分析を可能にします。結論として、KLA/TENCOR CRS 1010は、正確で正確なマスクおよびウェーハ検査用に設計された高度な検査ツールです。高解像度イメージングおよび自動欠陥分類機能により、マスクおよび基板表面の欠陥を迅速かつ容易に識別できます。直感的なユーザーインターフェイス、高速スループット、信頼性の高いパフォーマンスにより、理想的なマスク/ウェーハ検査資産となり、より高い歩留まりとより良いプロセス制御を保証します。