中古 KLA / TENCOR Candela CS20 #9390979 を販売中

ID: 9390979
ウェーハサイズ: 2"- 8"
Particle counter, 2"- 8" Thickness: 350 µm to 1,350 µm Defect sensitivity: 0.08 µm Diameter PSL Sphere equivalent: ≥ 95% Capture rate Surface topography: >2Å Ra sensitivity Parameters: Ra, Rq, Wa, Wq Film thickness uniformity (Single layer): 5Å <Thermal oxide < 1000Å Depth of focus: Maximum ±15 µm under bow Repeatability: CV ≤ 5.0 % Edge exclusion: Imaging (No exclusion) Defect analysis, varies with wafer size (Nominal: 2"= 1.5mm, 8"= 5mm) Defect types: Particles Scratches Stains Pits Bumps Scratches: 100 µm long, 0.1 μm wide, 50Å deep Pits: 20 µm Diameter, 50Å deep Stains: 20 µm Diameter, 10Å thick Illumination source: 50 mW Laser 405 nm Wavelength R-Θ Coordinates Coordinate precision: 80th percentile ≤150 µm Coordinate accuracy: 80th percentile ≤150 µm Spatial resolution: Minimum ≥ 10m spacing at outer edge of 8" Single channel particle measurements Robotic wafer handler, 2"- 8" Operator interface: Trackball and keyboard LCD Monitor, 19".
KLA/TENCOR Candela CS20は、高速検査性能、優れた欠陥検出・解析機能、高いスループット精度を提供するマスクおよびウェハ検査装置です。半導体マスクやウェーハの欠陥を精度と精度で検出することができます。このユニットは、高度な多次元欠陥検出と高度なウェーハパターン認識を使用して、さまざまなマスクおよびウェーハ基板の欠陥を迅速かつ正確に検出します。このマシンは、優れたウェーハ認識速度を達成するように設計されています。画像処理、コンピュータビジョン、パターン認識、多次元欠陥検出アルゴリズムの組み合わせを使用して、不完全さを正確に識別および分析します。このツールは、2つのカメラヘッドステージと高度な光学系を使用して、マスクまたはウェーハ上のパターンを同時にキャプチャおよび分析します。これにより、検出と解析のためのダブルパスが提供され、より高速なスキャン時間と優れた精度を実現します。このアセットには360度角度検査も搭載されており、ユーザーは正確さを失うことなくウェーハやマスクを任意の方向に回転させ、欠陥を完全にカバーすることができます。また、精密イメージングのための複数の自動アライメント、感度、エッジフォーカス調整オプションも含まれています。このモデルには、マーカーエッジ配置、CDおよびCDU精度、パーティクルカウントなどを特徴付ける高度なプロービング機能も含まれています。この機器は、さまざまなユーザーオプションと機能を備えています。カラーディスプレイが内蔵されており、マスクまたはウェーハ検査プロセスの迅速なナビゲーションと直感的な制御を提供します。また、Windows XPベースのソフトウェアパッケージが含まれており、グラフィカルな設定と制御が強化されています。また、強力な2Dパターン解析を行う強力な解析エンジンを搭載しています。このユニットはネットワーク接続も提供しており、他の多くの検査および分析プログラムに接続することができます。これにより、ユーザーは必要に応じて検査機の他の部分に接続し、ツールのリモートコントロールを提供し、データを同期および保存することができます。これにより、検査資産の速度と精度を最大化することができます。KLA CANDELA CS-20マスクおよびウェーハ検査モデルは、優れた性能、精度、速度により、精密半導体製造に最適です。この機器に搭載されている高度な機能と技術は、半導体マスクとウェーハの検査と分析のための直感的で迅速で信頼性の高いスキャンソリューションをユーザーに提供します。
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