中古 KLA / TENCOR Candela CS20 #293772319 を販売中

ID: 293772319
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2006
Surface measurement system, 6" Illumination source: 8mW Operator interface: Tracball and keyboard standard Substrate thickness: 350 µm-1100 µm Substrate material: Any clear / Opaque polished surface Defect sensitivity: 0.08 µm Scratches: 100 µm Stain: 20 µm Opaque substrates EPI Layer Transparent film coatings: SIC, GaN, Sapphire Parameters: Ra / Rq / Wa / Wq Cassette handling: Single puck with up to 200m Operating environment specifications: Voltage supply: < ±10% Environment: Class 1000 / Better recommended Air: CDA 95-110 psi, 2 CFM Equipment: Pollution degree 2 Power supply: 8A Computing system: Hard drive: 200 gb RAM: 2 gb Ethernet: Network card Operating system: Microsoft windows XP 2006 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20は、半導体製造プロセスに不可欠な最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、欠陥を検出し、集積回路の製造に使用されるマスクやウエハの品質を確保するための高解像度イメージングおよび分析機能を提供するように設計されています。KLA CANDELA CS-20の中心には、高度な光学技術があり、マスクやウェーハの非常に詳細な画像を、卓越した明瞭さと精度でキャプチャすることができます。このマシンは、これらの重要なコンポーネントの表面に存在する可能性のある欠陥やその他の欠陥を明らかにするために、ブライトフィールドとダークフィールドの照明技術の組み合わせを利用しています。TENCOR CANDELA CS 20の高解像度イメージング機能により、数ナノメートルのサイズの欠陥を検出することができ、製造工程で最も細かい欠陥を特定して対処することができます。Candela CS20の主な特徴の1つは、マスクやウェーハの迅速かつ自動化された検査を実行する能力であり、大量の部品を短時間で高スループット分析することができます。このツールには、不具合や異常を迅速かつ正確に識別できる高度な画像処理アルゴリズムが装備されており、製造メーカーは高水準の品質管理を維持し、製品の信頼性と一貫性を確保するのに役立ちます。CANDELA CS 20は、イメージング機能に加えて、さまざまな分析ツールや機能を提供しており、ユーザーはマスクやウェーハ上の欠陥やその他の機能の詳細な分析を行うことができます。このアセットは、表面の3D表現を生成することができ、欠陥の詳細な特性評価を可能にし、その形態と分布に関する貴重な洞察を提供します。また、欠陥データの統計分析を行うことができ、製造プロセスの根本的な問題を示す可能性のある傾向やパターンを特定するのに役立ちます。TENCOR Candela CS20は、ユーザーフレンドリーで操作しやすいように設計されており、直感的なインターフェイスを備えており、ユーザーは検査を素早くセットアップして実行できます。このモデルは、定期的な品質管理チェックから特定の機能や欠陥の詳細な分析まで、幅広い検査タスクを実行するように構成できます。ユーザーは、特定の要件に合わせて検査パラメータと基準をカスタマイズし、機器が製造作業の固有のニーズを満たしていることを確認できます。全体として、CANDELA CS-20は最先端のマスクおよびウェーハ検査システムであり、半導体メーカーに比類のないイメージングおよび分析機能を提供します。KLA/TENCOR CANDELA CS-20は、高度な光学技術、高解像度イメージング機能、高度な分析ツールにより、欠陥を検出し、集積回路の製造に使用されるマスクやウエハの品質と信頼性を確保するための強力なソリューションを提供します。
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