中古 KLA / TENCOR Archer XT #9034312 を販売中

KLA/TENCOR Archer XTは、幅広い半導体製造用途に使用するために設計された高度なマスクおよびウェハ検査装置です。マスクおよびウエハーの高速、高精度、3D点検を特色にします；そして最も重要なマスクおよびウェーハの欠陥の点検の条件のために設計されている詳細な分析および特性評価用具を提供します。KLA Archer XTは、KLAの高度な光学技術、ソフトウェア、イメージング技術を基盤とし、欠陥検出、欠陥分類、画像解析などの幅広い自動機能を提供します。このユニットは、より迅速な欠陥検出と識別を可能にし、正確さを犠牲にすることなく、ウェーハやマスクの欠陥の検出、発見、特性評価のプロセスをスピードアップします。TENCOR Archer XTは、4つのイメージングシステム（明るいフィールド、低い角度の明るいフィールド、暗いフィールド、蛍光）を提供し、幅広い欠陥タイプをサポートします。また、パターンベースのグループ化、欠陥分類、高度な分析などの高度なアルゴリズムと後処理機能を提供し、欠陥の分類をさらに支援します。Archer XTマシンは高度にカスタマイズ可能であり、特定のニーズを満たすように構成することができます。このツールは、高度な欠陥検査機能をさらにサポートするために、マルチコンフィギュレーション可能なウェハホルダーを使用して、クラス最高の欠陥検査機能を提供します。また、拡張性を可能にするモジュラー設計、簡単なメンテナンスとアップグレードを備えています。このアセットは、Small Field of View （SFOV）機能を備えており、100nm未満の設計ルールを表示および検査することができます。SFOV技術は、スクリーニング精度とシャープさを高め、より大きな欠陥検出機能を可能にする環境を作り出します。KLA/TENCOR Archer XTは、歩留まり管理とプロセス制御の開発、分析、評価のための包括的なツールを提供し、使いやすさのために設計されています。このモデルは、TENCOR検査および歩留まり管理システムと統合することができ、追加の自動化およびデータ統合機能を可能にします。高度な検出機能と使いやすいインターフェイスを備えたKLA Archer XT装置は、完全なマスクおよびウェーハ検査ソリューションを提供します。このシステムは、マスクとウェーハの3次元検査、欠陥の詳細な分析と特性評価、SFOV機能、および自動データ収集と分析を提供します。最も厳しい半導体製造要件をサポートするTENCOR Archer XTは、マスクとウェーハの歩留まりを最大限に引き出そうとする組織にとって理想的な選択肢です。