中古 KLA / TENCOR Archer AIM #9276702 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIMは、半導体マスクおよびウェーハクリティカル層の高解像度自動検査を提供するように設計された先進的なマシンビジョンマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な光学系とソフトウェアを組み合わせて、半導体デバイスの製造および設計に不可欠な高精度で高感度な測定を可能にします。まず、KLA Archer AIMは、超高速スキャンレートで高解像度の光学およびイメージング機能を備えています。これにより、マスクやウェーハクリティカルレイヤーの画像を素早く正確に取得できます。カメラと光学の組み合わせは、可視光の波長の下で最高の詳細と詳細を拾うことができます。さらに、超高感度でマスク層とウェーハ層の小さな変化を検出して測定し、0.01µmのようなリソグラフィ欠陥を検出し、ラインエッジの粗さ、線の幅の粗さ、欠陥密度、線量の大きさ、再現性、均一性などの仕様の特徴を検出することができます。TENCOR Archer AIMは、マスクおよびウェーハ検査の精度と一貫性を確保するために、複数の実証済みの画像処理アルゴリズムと高度な分析機能を備えて設計されています。この一連のアルゴリズムとソフトウェアは、汚染、パターン変形、および小型または薄い線などの異常を検出および測定することができます。さらに、ソフトウェアは、任意の方向から、任意の角度や方向からマスクやウェーハを測定することができるという点で多次元です。これにより、クリティカルレイヤーのより包括的な検査と分析が可能になります。ソフトウェアはまた、ユーザーがより徹底的に欠陥を見直し、分析することができ、組み込みの欠陥レビューモジュールを備えています。このデータを使用して、レポート、グラフ、画像を生成し、欠陥を特定して分類することができます。レポートは、必要に応じて、レビューのために他の人員や部門と共有することができます。さらに、Archer AIMはユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）で構成されており、オペレータはツールを素早く簡単に設定し、検査結果を表示できます。特定のマスクおよびウェーハ検査アプリケーションの要件を満たすために、柔軟なハードウェアおよびソフトウェアオプションを利用できます。全体として、KLA/TENCOR Archer AIMは、最高レベルの精度と信頼性を提供するように設計された強力で信頼性の高いマシンビジョンマスクおよびウェーハ検査資産です。