中古 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9202700 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIM+は、半導体メーカーが製造プロセスの品質と精度を確保するために使用する自動マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高度なイメージングおよび分析アルゴリズムを使用して、半導体デバイスのマスク、ウェーハ、およびプロセス層の欠陥を検出します。KLA Archer AIM+ユニットは、PixelTRAK 1000、 SiliconVision XR、 ProcessVerify、 GEMIN3、 IMAGEの5つのコンポーネントで構成されています。各コンポーネントには、マスクおよびウェーハ検査プロセスを合理化し、正確な結果を提供する独自の機能があります。PixelTRAK 1000は、手動と自動検査プロセスの間の性能ギャップを埋めることができる画像取得機です。このツールには、フラットパネル、ローラーベース、または半導体キャリアからアセットに供給されるマスクまたはウェーハの高解像度画像をキャプチャするCCDカメラが含まれています。欠陥検出タイプ、カメラアングル、イメージウィンドウなど、すべての欠陥と検査の組み合わせについて画像を修正および参照できます。SiliconVision XRは、マスクまたはウェーハの欠陥に関するより詳細で正確な情報を生成するために設計された強力な画像解析ツールです。このプラットフォームは、パターン認識アルゴリズム、3Dイメージング、機械学習技術を使用して、表面、チップ、デバイスの欠陥を効率的に識別します。ProcessVerifyは、生産性を向上させ、運用コストを削減するために設計された統合レビュープラットフォームです。この技術により、企業は、欠陥位置、欠陥分類、および自動化されたアクションなど、検査プロセス中に発生するすべての変更を追跡することができます。GEMIN 3は、生産および検査プロセスのさまざまな段階で拡張フィーチャーの表面形状を測定および分析するために設計された測定モデルです。この装置は、最大5mの深度範囲と10。7mmの広い視野を持つ物体を測定することができます。最後に、IMAGEは製品の品質を保証するために使用できる自動欠陥検査および分類機能を提供します。このシステムには、パターン、しわ、亀裂、ほこり、およびその他の種類の不規則性を識別するための特殊なアルゴリズムが装備されています。人工知能の助けを借りて、ユニットは、詳細な分析と詳細な欠陥データを提供することができます。TENCOR Archer AIM+キットは、パワフルで使いやすいマスクおよびウェーハ検査機です。欠陥検出、画像解析、プロセス制御のためのさまざまな機能を提供し、半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。