中古 KLA / TENCOR Archer AIM #9180730 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIMは、半導体製造のマスクおよびウェーハ製造工程における欠陥の検出および識別に使用される「マスクおよびウェーハ検査」装置です。KLA Archer AIMシステムにより、集積回路チップメーカーは欠陥検出を向上させ、パターン欠陥をこれまで以上に迅速かつ正確に特定できます。マスクとウェーハの幅広い欠陥を正確に識別するために、機械学習という新しい検査技術が組み込まれています。TENCOR Archer AIMユニットは、光学、画像キャプチャ、統合ソフトウェアの組み合わせを使用して、ウェーハおよびマスクパターンの欠陥を検出および識別します。機械学習はより速く、より正確な欠陥検出を可能にするために機械に組み込まれます。広角レンズと複数の露光を使用して単一のマスキングまたはウェーハ画像を作成する「breadth imaging」と呼ばれる高度なイメージングおよびデータ収集技術を利用しています。これにより、マスクまたはウエハパターンを対応する視覚的に検査された設計と比較し、欠陥を検出および分類することができます。Archer AIMはまた、欠陥を検出し分類するために、さまざまな高度な画像処理技術を採用しています。アセットは「Superpixel」技術を使用して、互いに近接した複数の欠陥を分離します。また「、エッジ検出」を使用して、パターン間の小さな違いを特定し、ずれや汚染によるパターンの欠陥を示す可能性があります。さらに「感度調整」機能により、機器の欠陥検出しきい値を調整し、欠陥検出率を最大化することができます。KLA/TENCOR Archer AIMシステムのコンポーネントは、アプリケーションソフトウェア、ネットワークストレージ、データ収集/制御ステーション、およびイメージプロセッサコントローラを含む統一されたユニットを介して統合されています。イメージプロセッサコントローラは欠陥画像のキャプチャ、分析、保存を担当し、データ収集/制御ステーションはマスクやウェーハの位置、露出、露出時間などのマシンパラメータを制御するために使用されます。KLA Archer AIMツールは、さまざまなマスクパターンやウエハータイプに使用できます。高性能スキャンレートを備えており、1つのマスクまたはウェーハパターンの広い領域を短時間で日常的にスキャンすることができます。アセットはまた、毎時数千枚の画像をキャプチャし、欠陥レポートや画像を迅速に生成することができます。TENCOR Archer AIMモデルは、一貫した信頼性の高い検査結果を提供します。高速で優れた欠陥検出機能を備えたArcher AIMは、メーカーが製品の完全性を保証しながらコストを削減する強力なツールです。