中古 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9176822 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIM+は、半導体業界で最も困難な要件を満たすように設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。それは最も困難なフォトマスクおよびレチクルの形態因子の点検の比類のない正確さそして再現性を提供します。コンピュータ制御光学、高度なパターン認識アルゴリズム、完全に統合されたソフトウェアプラットフォームなどの最先端の技術により、金属材料とセラミック材料の両方の欠陥と異常を確実に検出できます。KLA Archer AIM+システムは、高度な光学ユニットを使用して、あらゆるマスクまたはウェハの重要な詳細をキャプチャします。その光学機械はレンズの幅広い選択を含み、基板表面に存在する欠陥や異常を迅速かつ正確に認識することができます。このツールは、特に小さな機能をキャプチャすることができます。TENCOR Archer AIM+アセットには、自動サンプルのロードとアンロードを備えたロボット処理モデルもあります。これにより、サンプルローディングプロセスの再現性が保証され、全体的なサイクルタイムが向上します。さらに、装置はオーバーレイの配置とアライメントを正確に測定することができ、マスクまたはウェーハの機械的整合性を評価するための理想的なツールとなります。正確な検査を行うために、Archer AIM+システムは最先端のハードウェアと高度なパターン認識と欠陥検出アルゴリズムを組み合わせています。このユニットは、0。1 μ mまでの解像度で、マスクまたはウェーハ表面のパターンと異常を認識できます。それは効果的に粒子、ピット、縞、ピンホールおよびひびを-あらゆる角度か位置で検出できます。このマシンはまた、分析機能を向上させるための多くのツールを提供しています。これらには、画像の歪み補正、自動欠陥分類、および柔軟なメトリクスベースのルールツールが含まれます。さらに、この資産はArcher Insightと呼ばれるソフトウェアプラットフォームと統合されており、ユーザーは検査データを簡単に管理できます。KLA/TENCOR Archer AIM+モデルは、信頼性と堅牢性の高いマスクおよびウェーハ検査を必要とする半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。高度な技術と自動化されたハンドリング手順により、歩留まりに重要な検査を正確かつ繰り返し実行できます。さらに、Archer Insightは、検査データを管理、分析、レポート作成するための直感的なプラットフォームをユーザーに提供します。