中古 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9109277 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIM+は、最新の半導体産業のために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。この自動化システムは、重要なフォトマスクおよびレチクルアプリケーションの検査およびレビューツールを提供します。KLA Archer AIM+は、プロセス開発と生産に重要なレイヤーの両方の欠陥を検出することができます。TENCOR Archer AIM+は、最高の検査精度とコスト削減を提供するように設計されています。顕微鏡イメージング、光散乱、偏光イメージングなどの複数の技術を採用し、複雑な手作業によるサンプル調製を必要とせずに欠陥を検出します。Archer AIM+はまた、独自のアルゴリズムと高度なパターン認識を使用して、微妙な幾何学的およびフォトマスクの欠陥を検出します。その能力は、その場で欠陥を検出し、特性評価することは、さらに準備と検査時間を削減します。KLA/TENCOR Archer AIM+は、包括的なレビュー機能も提供しています。これには、パターン分析とトレース、欠陥の識別とレビュー、および追跡と分析が含まれます。このユニットの高度なパターンライブラリは、業界標準のパターンとユーザーが定義するカスタムパターンとの比較を可能にします。KLA Archer AIM+では、レビュープロセスを支援する複数の注釈とオーバーレイオプションも提供しています。堅牢な欠陥検出およびレビュー機能に加えて、TENCOR Archer AIM+は自動欠陥検査、欠陥クラスタ検出、レポートも提供します。その柔軟なモジュラー型プラットフォームは、インラインとオフラインの統合の拡張性を提供し、さまざまなアプリケーションやプロセスを可能にします。広範なソフトウェアおよびハードウェアオプションを備えたArcher AIM+は、幅広いフォトマスクおよびレチクル検査アプリケーションに適しています。KLA/TENCOR Archer AIM+は、フォトマスクおよびレチクル欠陥を検出およびレビューするための、自動化された費用対効果の高いソリューションです。このマシンは、自動欠陥検査、クラスタ分析、レポート作成とともに、堅牢な欠陥検出とレビュー機能を提供します。包括的なパターンライブラリとアノテーション機能により、欠陥を迅速かつ正確に識別および特徴付けることができます。KLA Archer AIM+は、プロセス統合のためのスケーラブルなプラットフォームも提供しており、さまざまな生産環境に最適です。