中古 KLA / TENCOR Archer AIM+ #78215 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIM+は、高度な半導体生産環境に特化したマスクおよびウェハ検査装置です。表面および断面イメージング、フォーカスバリエーション顕微鏡、パターン化されたウェーハイメージングなど、さまざまな検査方法を組み合わせて、迅速かつ正確な欠陥検出を保証します。検査システムは、マスクの欠陥と設計の完全性に関する率直なフィードバックをリアルタイムで提供し、プロセスの決定を改善し、歩留まり損失を低減します。その高度な光学系は、広い被写界深度と完全な視野を備えており、最も微妙な欠陥を識別するのに役立ちます。また、Airy位相コントラストやニアフィールドイメージングなどの高度な解像度機能も備えています。KLA Archer AIM+は独自のソフトウェアを使用して、欠陥タイプの自動分類、欠陥リストの自動トリアージ、欠陥画像の自動フォーカス、欠陥画像の自動アーカイブ、画像の自動レビュー、カスタムマスクフロー用のルールエディタなど、さまざまな自動マスク欠陥検出機能を提供します。それは正確な分析のための不完全な区域の実験室の等級の光学そして構成可能な照明を指定できます。また、複数の方向からウェーハを表示するためのマルチサイト検査モード、代替周波数スキャンモード、高度なオーバーレイ精度と回帰ツール、正確な欠陥解析のための調整可能なエッジオフセットループファクタなど、ユーザーフレンドリーな検査ツールも提供しています。TENCOR Archer AIM+は、高度な半導体生産のための強力なツールであり、数分で高精度のマスクとウェーハ検査を可能にします。精密で高度にインテリジェントな検出機能により、あらゆる半導体製造操作に貴重な付加価値をもたらします。