中古 KLA / TENCOR Archer AIM Plus #9023783 を販売中

KLA/TENCOR Archer AIM Plusは、半導体製造プロセスで使用される高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、リソグラフィ印刷、計測、平面化に関連するものを含む、集積回路のマスクまたはウェハ製造の欠陥を識別することができます。ナノ粒子やその他の非リソグラフィ欠陥を自動的に検出し、正確に測定できる唯一のユニットです。KLA Archer AIM Plusは、複数のサブシステムからなる自動統合ユニットです。これには、リソグラフィ欠陥と非リソグラフィ欠陥を識別するための自動光学検査機（AOI）、小さな欠陥を測定するための高分解能顕微鏡、線幅偏差などのパラメータを測定する計測ツールが含まれます。さらに、検査モデルで得られた画像を分析し、歩留まり制限の問題を特定、評価、防止するための高度なデータ分析および可視化ツールキットが含まれています。AIM Plusは、3nm程度の小さな欠陥の迅速な検出と測定を可能にする高精度の非破壊検査を提供し、半導体デバイスの歩留まりを向上させるように設計されています。さらに、装置は、粒子、均一性、およびそれ以外の場合は検出されない可能性があるその他の非リソグラフィック特性を検出することができます。AIM Plusの高度な計測機能は、パターニングやリソグラフィのエッジ配置などの重要なナノ電子フォトリソグラフィープロセスを正確に制御します。AIM Plusは非常に高速で信頼性が高く、わずか25秒で1回のパスで8インチウェーハ全体を評価することができます。さらに、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、操作しやすいユニットが確保され、操作とメンテナンスの時間とコストが削減されます。強力なコンピューティング能力を備えたAIM Plusは、大量のデータを迅速かつ安全に転送することができ、リアルタイムで本番オプティマイザに貴重な洞察を提供します。全体として、TENCOR Archer AIM Plusは、マスクおよびウェーハ検査のための高度で強力なソリューションであり、半導体製造における歩留まりと低コストの生産を可能にします。高度な機能と機能を備えた汎用性が高く、品質管理とプロセス監視のための信頼性の高いソリューションです。