中古 KLA / TENCOR Archer 500 #293610056 を販売中

KLA/TENCOR Archer 500マスク&ウェーハ検査装置は、半導体アプリケーションにおける検査ニーズに対応する高性能ソリューションをオペレータに提供します。KLA Archer 500は、半導体業界の厳しい基準を満たすように設計された高スループット、高側面分解能システムです。このユニットは、最大5。5マイクロメートルの解像度でエッチング後のシングルデバイスマスク、および最大1。75マイクロメートルのダブルデバイスマスクおよび不透明マスクを検査することができます。優れたマシンスループットを備えており、ダイあたり10秒の画像取得と解析時間を統合できます。これは、強力なマルチコアアーキテクチャ、自動スキャンモード、および高度な光学ツールの組み合わせによって実現されます。アセットの中心部では、独自のopto-mechanical設計により、最大1,400 fpsのフルビューで0。4マイクロメートルの解像度でモデルを推進します。4クォードラントレチクルアライメントは、精密0。4マイクロメータステッピングモータで実現されています。この装置には、高精度のZ軸メカニズムを備えたX-Y変換プラットフォームと、高度なデジタルX-Y-z座標スキャンシステムが組み込まれています。このユニットには、高速ガルバノメーターベースのレーザービームとレーザー検出光学が装備されており、特定のデバイスの最大109のダイアグラムの特性を分析および比較し、最も複雑な構造でも欠陥をマッピングすることができます。このマシンは、高速自動焦点と収束ビームプロファイルを提供する革新的なオートフォーカスアシスタントと統合されています。Auto-Focus Assistantは、デバイスフィールド全体のデータポイントをキャプチャし、オペレータがフォーカスプロファイルを動的に調整して、最小のサーフェスステップでも正確に検出できるようにします。さらに、統合されたソフトウェア・スイートにより、ユーザーエクスペリエンスが向上します。このスイートには、直感的でナビゲートしやすいグラフィカルユーザーインターフェイス、柔軟なマスクアライメントとセグメンテーションアルゴリズム、およびツールのパフォーマンスを最適化するために設計された高度なエラーハンドリングが含まれています。TENCOR Archer 500 Mask&Wafer Inspection Assetは、半導体メーカーや研究室にとって強力で信頼性の高いツールです。高性能で使いやすいソフトウェアと堅牢な光学設計の組み合わせにより、あらゆる半導体検査アプリケーションにとって貴重で汎用性の高い資産となります。