中古 KLA / TENCOR Archer 300 #9311042 を販売中

KLA/TENCOR Archer 300は、高解像度イメージングシステムと高度なマイクロプロセッサを備えた、マスクおよびウェーハ業界の主要な検査機器です。現在の高速半導体製造環境の要件を満たすように設計されており、ウェーハおよびマスクパターンのフォトリソグラフィの欠陥を検出および修正するための信頼性の高いソリューションを提供します。このユニットは、デュアルX線カメラと自動アルゴリズムを使用しており、オペレータはパターン欠陥を迅速かつ正確に検出および分析することができます。機械の自動検出と特性評価（AFaC）機能は、検査されたウェーハまたはマスクを欠陥としてスキャンし、結果の画像をユーザーに伝えます。このツールはまた、最適なユーザビリティのための直感的なユーザーインターフェイスを備えています。このアセットは、複数のウェーハおよびマスクサイズをサポートし、幅広い欠陥を検出することができます。直径8インチまたは20 cmまでのウェーハを検査し、1,2 mまでのマスクを検査することができます。このモデルは、高度な4Kイメージングと自動検査アルゴリズムを使用して、欠陥の迅速な検出と分析を可能にします。最適な性能を確保するために、装置は非常に堅牢で信頼性が高いように設計されています。それに容易な取付け、維持およびトラブルシューティングを可能にするモジュラー設計があります。堅牢な診断機能と高度な熱補償技術を備えており、欠陥の非常に安定した検査と測定を保証します。さらに、ユーザーは、アプリケーションに最適な性能を確保するために検査パラメータをカスタマイズすることができます。KLA Archer 300は、さまざまなレイヤーやプロセスにわたるマスクやウェハパターンのフォトリソグラフィの検査に最適です。これは、顧客の要求に効率的かつ費用対効果の高い生産品質を確保するための信頼できるツールです。業界をリードする性能、信頼性、機能を備えたこのシステムは、半導体メーカーにとって最適な選択肢です。