中古 KLA / TENCOR Archer 300 #9287998 を販売中

KLA/TENCOR Archer 300は、優れた自動歩留まりおよび性能分析を提供するように設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。KLA Archer 300は、高度な画像認識アルゴリズムを使用して、半導体製造で使用されるマスクとウェーハパターンの両方の欠陥を検出、分析、分類します。このシステムは、1時間あたり1300万以上のサイトで、地形とパラメトリックの両方の異常を検出することができます。これらのサイトは、マスクとウェーハパターン間の矛盾を検出し、正確に修正するためにスキャンされます。また、ラインの狭い、またはブリッジの障害など、さまざまな欠陥タイプの高度な分析を行うことができます。TENCOR Archer 300は、最高水準の精度と性能を超えるように設計されています。最新のイメージング技術を活用することで、欠陥をミクロンレベルまで検出・解析することができます。その高度なパターン認識アルゴリズムは、理想的なパターンからの最小の偏差を認識することができ、結果への迅速な時間と高い歩留まり率をもたらします。また、KLA直感的なソフトウェアは、テストパラメータと結果プレゼンテーションのシームレスなカスタマイズを可能にします。ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスを使用すると、ユーザーはテストのパラメータをすばやく定義し、カスタマイズ可能なレポートを作成できます。これにより、ユーザーはこれまで以上に迅速に欠陥および層別化を分析および報告することができます。Archer 300は、画期的な次世代テクノロジーノードに特に役立ちます。最も複雑で密集したウェーハパターンを監視および分析することができ、マルチパターン設計に関連する微細な欠陥を正確に検出することができます。このマシンは、プロセス変動の影響と、時間の経過とともにマスクやウェーハの性能への影響を監視することもできます。KLA/TENCOR Archer 300は、半導体製造時のマスクおよびウェーハ欠陥を監視および分析するための強力で信頼性の高いツールです。これは比類のない精度と制御を提供し、より速い納期でより正確な分析を可能にします。KLA Archer 300は、最新のイメージングおよびパターン認識技術を活用することで、ユーザーがより高い歩留まり率を維持しながら、テストと分析に関連する時間とコストを削減するのに役立ちます。