中古 KLA / TENCOR Archer 300 #293760734 を販売中

KLA/TENCOR Archer 300は、高度な半導体デバイスのリソグラフィ処理性能を正確に分析するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、包括的な2Dまたは3Dイメージング機能、およびエッジ配置のバリエーション、サブリゾリューション機能、および重要なマテリアルフィルム相互作用を検出するための強化されたイメージング機能を提供します。KLA Archer 300ユニットは、高速レーザーパターンイメージング、自動光学検査、マスク検査、フィルム検査を組み込み、集積回路を分析できるハードウェアプラットフォームです。TENCOR Archer 300は、高解像度画像とAccuMetricパターンマッチングソフトウェアを組み合わせ、複雑なパターンの欠陥を容易に検出する高度なエッジと検証技術を提供するAccuMetrix™およびMultiRes™技術を使用しています。焦点深度の向上と特許取得済みの画像処理技術により、Archer 300は従来の可視化システムよりも正確かつ迅速に欠陥を検出および識別することができます。この最先端のマシンは、臨界寸法測定機能を向上させ、優れた歩留まり制御のためのプロセス制御を最適化しました。KLA/TENCOR Archer 300は、ピクセル解像度が20nm、高さ解像度が10nmまでの3D画像に対応し、1日で最大178個のウェーハをスキャンすることで、サンプルスループットを向上させました。KLA Archer 300は、最大128個のウェーハを同時にサポートし、高速なデータスループットを提供します。TENCOR Archer 300には、複数の主要な計測機能を同時に検査するMultiColor™技術を含む高度なマッピングおよびフィルム検査技術も搭載されています。また、オーバーレイのパフォーマンスを測定し、複数のレイヤー間でオーバーレイのパフォーマンスの一貫性を示すAbsolute Overlay™ツールも含まれています。さらに、このツールには統合されたマイクロマスク検査機能が含まれており、マスク機能の自動解析によりエラーや欠陥を排除できます。Archer 300の高度な資産設計には、レポート機能を備えた強力なデータ取得、分析、および通信ソフトウェアパッケージも含まれており、ユーザーはプロセスパラメータを制御、分析、検証することができます。包括的な分析、レポート作成、メッセージング機能により、ユーザーはプロアクティブに介入してプロセスのパフォーマンスを向上させることができます。KLA/TENCOR Archer 300は、高度で信頼性が高く、高性能なモデルで、精度、スループット、データ分析を最大化し、ユーザーがリソグラフィのプロセス制御目標を達成できるようにします。このクラス最高のマスクおよびウェーハ検査ソリューションにより、ユーザーは最大のプロセス安定性とデバイス製造歩留まりを達成できます。