中古 KLA / TENCOR Archer 10 #9205450 を販売中

KLA/TENCOR Archer 10は、フォトマスク、ウェーハおよびその他のプラットフォーム不可知基板の欠陥を検出および測定するために使用される最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムには、高度な発光イメージング発光（EIL）技術が搭載されており、高解像度で欠陥を検出および分析するためにブライトフィールドおよびダークフィールド画像を利用しています。高速、高精度、自動化された欠陥レビューを提供し、ユーザーに比類のないスループットとパフォーマンスを提供します。KLA Archer 10ユニットは、さまざまなアプリケーションやプロセスで効果的に設計されており、平坦面と曲面の両方で動作します。これは、リソグラフィ、エッチング、沈着、沈着パターンおよび誘電損傷によって引き起こされる欠陥を検出することができます。これにより、より迅速かつ正確な欠陥検出と分類が可能になり、欠陥関連コストを削減できます。高解像度のイメージング、自動欠陥レビュー、包括的な欠陥ドキュメントの組み合わせにより、TENCOR ARCHER10は最も要求の厳しい産業環境に最適なツールとなります。欠陥制御ソフトウェアソリューションなどの他のデバイスと簡単に統合して、正確でリアルタイムのデータ分析を行うことができます。TENCOR Archer 10マシンは、ブライトフィールドとダークフィールドのイメージングを通じて、迅速かつ正確に欠陥を識別することができます。これにより、信頼性の高い再現性のある結果と迅速な欠陥解析が可能になります。高度なマルチダイイメージングにより、精度とスピードが保証されます。ツールのユーザーフレンドリーなソフトウェアにより、操作が簡単になり、高度な機能により最高の精度が保証されます。ARCHER10のオートメーションスイートは、簡単なセットアップと柔軟なデータ分析を提供し、統合された3Dサンプルスキャナと検査エンジンにより、ウェーハと基板の高スループット処理を可能にします。KLA ARCHER10はまた、驚くほど詳細な欠陥画像を提供します。そのソフトウェアは、詳細に欠陥を分析し、表示することができます、ユーザーは、欠陥のサイズと形状を評価するズームインとアウトを可能にします。また、フィルターベースの欠陥識別ツールを備えており、誤った欠陥をフィルタリングできるため、ユーザーは正確な結果を確認できます。さらに、この資産は包括的な欠陥制御を提供します。欠陥レポートや欠陥分析、リアルタイムSPCなどの機能により、欠陥トレンドを迅速に特定、分類、監視できます。全体的に、KLAのArcher 10は、高度で高速なマスク&ウェーハ検査モデルです。KLA/TENCOR ARCHER10は、直感的なソフトウェア、マルチダイイメージング、自動欠陥レビュー、包括的な欠陥制御により、産業環境において比類のないスループットとパフォーマンスを提供します。