中古 KLA / TENCOR Archer 10 #9104743 を販売中

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ID: 9104743
ウェーハサイズ: 12", 8"
ヴィンテージ: 2002
Overlay inspection system, 12", 8", Software version: 3.10.06.SP7 OS: WINDOW NT 4.0 B1381 License: ANRA CPM GEM Imageless LIED XY Separation E87 E40E90E94 Handler: Dual FIMS Brooks robot Pre-Aligner Controller / Asyst loadport 2002 vintage.
KLA/TENCOR Archer 10は、マスクおよびウェハ検査用に設計された先進的な光学イメージング機器です。Critical-Dimension Scanning Electron Microscopy (CD-SEM)などの半導体アプリケーションに最適で、高精度で集積回路(IC)の重要な特徴を測定することができます。KLA Archer 10の中核は、レーザー、接触、電子ビームイメージングと画期的な自動パターン認識(APR)ユニットを組み合わせたユニークな光学リソグラフィーシステムです。これにより、TENCOR ARCHER10は、非常に複雑なパターンを測定する際に、これまでにない精度とスループットを達成できます。0。1ミクロンのデバイスを正確に測定し、さまざまな形状、サイズ、特徴を持つパターンを自動的に識別できます。TENCOR Archer 10には、最大8Kのウェーハとマスクの解像度をキャプチャする高解像度CMOSイメージングマシンも搭載しています。このツールを使用すると、基板と欠陥を非常に高解像度で表示でき、製造プロセスに入る前に問題を特定して対処することができます。さらに、統合された光学フォルト解析(OFA)アセットにより、モデルを通過する際にウェーハの欠陥をリアルタイムで検出および評価することができます。最後に、ARCHER10には、最大4つの独立したイメージソースを収集および同期できる強力なデータ収集装置も装備されています。このシステムは高効率であり、IC故障解析やIC性能チューニングなど、単一のICの詳細な調査が可能です。全体として、KLA ARCHER10は強力で高度なユニットであり、マスクとウェーハの信頼性、正確性、迅速な検査を提供するように設計されています。オンボード機能、高感度かつ先進的なイメージセンサー、リアルタイムのパターン認識機能を組み合わせることで、半導体検査のリーディングマシンとなります。
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