中古 KLA / TENCOR Archer 10 XT #9258184 を販売中

KLA/TENCOR Archer 10 XTは、半導体製造用に設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。フォトマスクやウェーハの欠陥を迅速かつ正確に検出し、特定するのに役立ちます。KLA ARCHER10XTには、不審な機能の包括的な分析を提供する自動欠陥レビューシステムが装備されており、ユーザーはフォトマスクやウェーハの潜在的な欠陥を迅速かつ簡単に調査および対処することができます。さらに、このユニットは、アプリケーションに応じて0。7ミクロンから12ミクロンまでの解像度の範囲の小さな欠陥を検出するための高い感度を持っています。TENCOR ARCHER 10XTは、20Xレーザーと高速光学系を使用して、物理的なサンプル移動を必要とせずに、デバイス全体を素早くスキャンします。このマシンは、MEMS/MOEMS、ウェーハ、フォトマスクなど、さまざまなデバイスタイプを扱うように設計されています。また、FinFET、 Fin Field-Effectトランジスタ、HBLED、高輝度発光ダイオードなどの高度な構造での使用にも適しています。画像処理機能に加えて、KLA/TENCOR ARCHER 10XTには、検査プロセスの速度と精度を向上させるためのさまざまな洗練されたソフトウェア機能があります。このツールは、あらかじめ設定された基準に基づいて、またはユーザーによって指定されているすべての潜在的な欠陥を識別および分類するように設定できます。高度な欠陥クラスタリング、排他的欠陥状態マシン、および合成欠陥生成などの機能は、高度なデータ分析のための詳細なインテリジェンスを提供します。さらに、ARCHER10XTは設定可能な照明、コントラスト、色の値で欠陥画像を作成することができ、自動欠陥サイズと欠陥メモリ比較ソフトウェアを備えた強力な後処理アセットを備えています。これにより、検査前後のデバイスのバリエーションを簡単に視覚化して比較することができます。また、幅広いインターフェイスに対応しているため、既存の生産プロセスと容易に統合できます。さらに、高度なWebおよびレポート機能により、ユーザーはリモートでデータにアクセスして分析することができます。全体として、ARCHER 10XTは、優れた精度で迅速かつ効率的な欠陥検出と分析を提供する高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。その機能豊富なソフトウェア、イメージング機能、および接続オプションにより、あらゆる半導体製造環境にとって貴重な付加価値があります。