中古 KLA / TENCOR Archer 10 XT #9250148 を販売中

KLA/TENCOR Archer 10 XTは、さまざまな半導体プロセスノードに対して高いスループットと正確な計測を提供するマスクおよびウェハ検査装置です。KLA ARCHER10XTは、0。05 µmのライン幅を含む最小の機能を検出するように設計されており、5/5nmなどのトップエンドテクノロジーノードに最適です。このシステムは、20µmまでの広い視野（FOV）を提供し、サイト間、ステップアンドリピート測定を可能にします。TENCOR ARCHER 10XTは、高度なアルゴリズムを使用して、極端な低コントラスト画像でも粒子の存在とその特性を正確に決定することができます。KLA/TENCOR ARCHER10XTは、非常に小さなサイズでも粒子の検出を可能にする高度なシリコンオンインシュレーター（SOI）ウェーハ上に構築されています。より大きなダイナミックレンジと拡張露光範囲を組み合わせた高度なブライトフィールドオプティクスは、暗い表面と反射面、すべての重要な層深度の欠陥検出をサポートします。ユニークなのは、高められた暗いフィールド、明るいフィールド、そしてより良いコントラストとイメージングのための斜めの照明を組み合わせたハイブリッド照明機です。ARCHER10XTの高度なソフトウェアには、独自のアルゴリズムと複数の画像の同時キャプチャが含まれています。さらに、高いスループット、精度、信頼性を実現する検査設定を最適化する使いやすい「Smart-Capture」ツールと組み合わせて、幅広い測定技術を提供します。TENCOR ARCHER10XTは、エッジ検出、フィーチャー認識、バリア層の測定など、検査機能のユニークなパッケージも提供します。エッジ検出機能により、オーバーレイを含む完全なクリティカルなマスク層をスキャンすることで、マスク機能の分析がさらに向上します。高度なアルゴリズムでサポートされている機能認識技術は、複雑な形状やパターンのより迅速かつ正確な測定を提供します。最後に、バリア層の測定機能は、最大0.01µmの精度を提供し、狭いトレンチラインでも高忠実度のパターン測定を保証します。これらの機能を組み合わせることで、TENCOR Archer 10 XTは、マスクおよびウェハ検査用の信頼性の高い効率的なソリューションを提供します。このアセットは、業界で比類のない精度と精度を備えた、さまざまな半導体プロセスノードの高度な計測を提供します。