中古 KLA / TENCOR 2830 CI #9257467 を販売中

KLA/TENCOR 2830 CIは、半導体製造のために設計されたウェーハ試験および計測機器です。このシステムは強力で高精度であり、研究および業界アプリケーションの両方に使用できます。ユニットの測定は、リアルタイムのサブ100nm 3D測定に基づいています。それは層の厚さ、平坦、平坦、特徴の均一性、X線の反射測定、均等性、圧力、相互接続性、付着、ライン幅、印刷性、フォトマスクの欠陥検出およびイメージ分析を含むいろいろな機能に使用することができます。KLA 2830 CIは、バッチ処理ツールを介して各ウェーハを最初から最後まで追跡することができる自動化されたマシンです。プロセスコントローラにより、各ウェハの真の状態をリアルタイムで正確に判断できます。また、小さな特徴を正確に見つけて測定することができるビジョンアセットを含む欠陥認識のための高度なアルゴリズムが装備されています。TENCOR 2830 CIのウェーハハンドリングモデルは、ナノメートルレベルの精度で迅速かつ効率的にウェーハを移動するように設計されています。この装置は、ウェーハの損傷を最小限に抑えたサンプル処理を可能にするように設計されており、さまざまなウェーハサイズに対応できます。このウェハハンドリングシステムは、マルチパステスト結果を処理することもでき、表面の反復可能な特徴や粗さパターンを簡単に識別することができます。2830 CIはまた、既存のテストシステムへの容易な統合を可能にします。それは適用範囲が広い設計および既存のテストハードウェアの容易な統合のためのモジュラー製品アーキテクチャが装備されています。KLA/TENCOR 2830 CIは、自動読み取り機能を備えており、開発およびプロセス改善に使用できる信頼性の高い再現可能な読み取り機能をユーザーに提供します。このユニットは、SEMVision、 Euriwareの光学およびイメージングソリューション、自動欠陥認識ソリューションなど、さまざまなソフトウェアパッケージと連携するように設計されています。KLA 2830 CIは研究および企業の適用のために特に設計されている強力で、精密な機械です。正確で繰り返し可能な読み取りは、情報に基づいた意思決定に必要なデータをユーザーに提供します。TENCOR 2830 CIは、豊富な機能と柔軟な設計により、あらゆる半導体製造設備に付加価値があります。