中古 KLA / TENCOR 2810 #9169784 を販売中

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ID: 9169784
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Bright field defect wafer inspection system, 12" Equipment status: In-line Type: Non SMIF Automation online components: GEM Wafer type: Notch at 6 o'clock Software OS: Windows Software: Y2K Competion 2008 vintage.
KLA/TENCOR 2810は、フォトマスクやウェーハの欠陥に重要な機能を備えた、正確で自動検査用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、優れたイメージング性能、高度な計測機能とユーザーフレンドリーなソフトウェアを組み合わせ、半導体の検査とレビューの厳しい要件に合わせたソリューションを提供します。KLA 2810には、最新のハードウェアおよびソフトウェア技術が組み込まれており、信頼性と再現性の高いデータを提供しながら、正確な位置決めとストロボアライメントを提供し、欠陥のない開始と正確な動作を保証します。このユニットはセットアップと操作が簡単で、自動化された測定システム、光学パターン認識、および高度な欠陥レビュー機能により、最も洗練されたウェーハ設計の迅速かつ正確な検証が可能です。TENCOR 2810の5軸構成により、すべての主要コンポーネントにアクセスでき、マスクを正確かつ再現可能に登録できます。このマシンには、デュアルステージの双眼ステレオ表示が含まれており、従来の顕微鏡では表示が困難であるか不可能である複雑な構造や特徴にわたって正確かつ再現可能なイメージングを可能にします。2810は、ダークフィールド、斜め角度、およびKLA特許取得済みのLED照明ツールを含む最新の照明技術を利用しており、光フレアを低減し、欠陥の可視性を向上させます。これは、オンボードステッパパターン認識アルゴリズムの助けを借りて、広い領域を迅速に検査し、パラメトリック欠陥の場所を特定することができます。さらに、KLA/TENCOR 2810は、マスクの感光層を検査することができ、誤検出を低減します。KLA 2810には、TENCOR欠陥データ管理ソフトウェアを含む包括的なソフトウェアツールも含まれており、複数のソースからのデータの分析とレビューが可能です。このアセットは、コラボレーションと欠陥レビューのための強力なユーザーインターフェイスも備えています。革新的な設計、高度なイメージング機能、汎用性の高いソフトウェアツール、ユーザーフレンドリーな操作を備えたTENCOR 2810マスクおよびウェーハ検査モデルは、半導体の欠陥のレビューと分析に不可欠なツールです。
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