中古 KLA / TENCOR 2608 #9386377 を販売中

ID: 9386377
ヴィンテージ: 1996
Wafer inspection system 1996 vintage.
KLA/TENCOR 2608マスク&ウェーハ検査装置は、200mmおよび300mmウェーハの高度なプロセス制御およびライン監視に適した自動ウェーハ検査および計測プラットフォームです。このシステムは、フォトマスク、半導体ウェーハ、およびフラットパネルディスプレイ上の重要な機能を正確に測定するために設計されています。広い視野、ナノメートル分解能、高スループット機能により、ウェーハおよびマスクリソグラフィ制御に最適なソリューションです。KLA 2608には、高感度カラーCCDラインスキャンイメージングセンサー、高性能オプティクス、高解像度ウェハステージが搭載されています。CCDラインスキャンイメージングセンサーはピクセルサイズが8µm以下で、マスクやウェーハ表面の欠陥を高解像度で撮影することができます。さらに、TENCOR 2608は4 x 3インチの広い視野を提供し、サンプルの広範な概要を提供し、正確な識別と欠陥のターゲティングを可能にします。2608は、フィルム厚、屈折率、地形、オーバーレイ検証、ライン幅、ラインとスペースの測定、改行のキャプチャ、ダークライン検出の処理、広いラインの検証など、マスクやウェーハ表面でさまざまな測定を行うことができます。さらに、自動欠陥検出とレビュー、生産性と精度の向上に特化したアルゴリズムを提供しています。KLA/TENCOR 2608は、最大4台のウェーハを一度に積み降ろすことができる高速ウェーハ搬送ユニットを搭載しており、高スループットを実現しています。KLA 2608には、自動ジョブプログラミング、リモートアクセス、集中データ管理、レビュー用の統合プロセス管理ソフトウェアも付属しています。KLA 2608Mask&ウェーハ検査機は、半導体ウェーハおよびフォトマスクの検査および計測において、高精度、生産性、再現性を提供します。高度なCCDラインスキャンイメージングセンサー、高性能オプティクス、4 x 3インチ視野、ナノメートル解像度、高速ウェーハ搬送機能などの強力な機能は、高精度ウェーハおよびマスクプロセス制御に適しています。
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