中古 KLA / TENCOR 2435 Viper #293775231 を販売中

KLA/TENCOR 2435 Viperは、マスクおよび半導体ウェーハに存在する欠陥を検出および特性評価するために設計された高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高解像度イメージングと高度な計測機能の両方を組み合わせて、プロセス制御と品質保証の成功を保証します。KLA 2435 Viperは、高度なレーザーベースの光学臨界次元（OCD）と高度な検出技術を組み合わせて動作します。レーザーインターフェイスは、0。02umまでの精度でマスクとウェーハの高解像度画像を提供します。これにより、高い精度が得られ、最も正確なパターン測定と解析が可能になります。統合された検出器は、欠陥金型検査、ダークフィールドイメージング、汚染検出など、より幅広い検査を可能にします。さらに、感度の向上により、TENCOR 2435 Viperは表面粗さ測定も可能です。2435 Viperには直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスが付属しており、ユニットの機能と設定に簡単にアクセスできます。さらに、モジュール式の設計により、簡単な再構成が可能になり、ユーザーはウェーハやマスク検証などの検査をすばやく切り替えることができます。さらに、KLA/TENCOR 2435 Viperは、自動欠陥認識（ADR）マシンなどのさまざまなソフトウェアをサポートしており、複雑なパターンやファインピッチデバイスを使用してマスクやウェーハを検査するユーザーの検出およびレポート機能を向上させます。このツールには、Calibration and Calibration Offline （CCO）モジュールなど、さまざまな高度な分析ツールも付属しています。このモジュールは高度なパターン認識を提供し、ユーザーはマスクまたはウェーハのパターンを自動的に監視し、継続的な品質管理を保証することができます。要約すると、KLA 2435 Viperは、品質管理を改善し、成功を収めるために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査資産です。このモデルは、高解像度イメージングと高度な計測機能と直感的なグラフィカルインタフェースを組み合わせています。さらに、各種の高度な解析ツールをサポートしているため、サンプルと事前定義された規格を比較する際の検出精度と精度の向上が可能です。