中古 KLA / TENCOR 2401 #293774190 を販売中

KLA/TENCOR 2401は、直径200mmまでのウェーハおよびマスクの整列、検査、および洗浄のための幅広い検査および測定要件を満たすように設計されたウェーハおよびマスク検査装置です。このシステムは、2つの独立した超高解像度カメラを備えており、ウェーハとマスク表面の非常に詳細な画像をキャプチャし、高速で信頼性が高く、正確な結果を得ることができます。このユニットは、検査中にほこりのない環境を確保するのに役立つ特許取得済みの環境シールドと、検査開始前に閉じ込められたほこり粒子を除去するための内蔵のクリーニングステーションと強力な空気パージ機能を備えています。直感的なユーザーインターフェイスにより、ユーザーは最適な画像キャプチャと顕微鏡のアライメントのために両方のカメラを設定することができます。これにより、倍率範囲、回転角度、Z軸の動きなどのパラメータを設定して、可能な限り最高の画像を正確にキャプチャできます。KLA 2401の自動検査および計測機能には、ハードおよびソフトな欠陥に設計された画像解析アルゴリズムの広範なライブラリも含まれています。これにより、80nmピッチ解像度までのウェーハまたはマスクの幅広い欠陥を検出できます。このマシンは、等方性粒子、ライン、傷などの欠陥、およびCMPの均一性やCDマージンの最適化などのプロセスパラメータを検出できます。このツールは、短絡と開回路をダイレベルからレチクルレベルまで電気的にテストすることができます。また、レポートジェネレータを介して統計プロセス制御（SPC）を提供することができ、毎秒10,000の結果を生成することができます。このモデルは、金属伝導材料で満たされる前に、貫通シリコン貫通（TSV）のプロファイルを測定することもできます。これにより、伝統的なCMPスキャンでは不可能な非常に細かい詳細をキャプチャできます。ウエハの向き、膜厚、表面粗さ、形状偏差、平坦度などのパラメータ測定にも使用できます。TENCOR 2401は非常に信頼性が高く、ユーザーフレンドリーに設計されています。システムは極度な正確さ、高速、および長い生命のために設計されています。これらの機能と直感的なユーザーインターフェイスを組み合わせることで、2401は、ウェーハとマスクを検査および測定する信頼性の高い正確な手段を探している半導体業界のユーザーにとって優れた選択肢となります。