中古 KLA / TENCOR 238 #293595764 を販売中

KLA/TENCOR 238は、電子デバイスの製造に使用される集積回路（IC）などのデバイスやその他のコンポーネントを検査するために設計された先進的な半導体マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、リソグラフィックマスクおよび印刷されたウェーハパターンの欠陥を識別および検査するように設計されています。KLA 238は、最先端のパターン認識ユニットを使用して特定のマーキングを識別し、マスクやウェハパターンの精度を分析するために使用できる回折やその他の可視機能を検出するために使用できる高解像度の画像を提供します。また、イメージング環境からのノイズや干渉を排除するために、幅広い高感度フィルターを備えています。マスクパターンやウエハパターンの高解像度出力で信頼性の高い画像を提供するために、先進的な光学技術を利用しています。このツールはまた、高速オートフォーカス機構を備えており、イメージャの視野における微細な詳細を検出することができます。このアセットは、UV、青、緑のLED、レーザーなど、さまざまな光源を使用してデータをキャプチャします。これらの様々な光源は、コントラスト機能の拡張範囲を提供し、モデルは微妙なマスクやウェーハの欠陥を識別することができます。TENCOR 238には、複数フィールドのイメージングと拡大機能が組み込まれており、一度に最大20の異なる視野を検査することができます。また、幅広い分析画像を保存することができ、ユーザーは画像を閲覧、保存、アーカイブしてアーカイブすることができます。さらに、238は、正確な結果を保証する多くの機能を備えています。このような特徴の1つは、マスクやウェーハパターンの小さな欠陥を正確に特定することができるレーザー集光機構の改良です。この機能は、誤報を低減し、正確な結果を達成するためのコストを削減するのにも役立ちます。また、イメージングプロセスに使用する光の量と種類を柔軟に調整できるため、さまざまなイメージング条件で結果を向上させることができます。最後に、このマシンは多くの安全機能を備えて設計され、オペレータや機器に損傷や損傷を与える可能性が低減されました。すべての内部レンズはセルフクリーニングで、使いやすく、問題を引き起こす可能性が低くなります。さらに、このツールは偶発的な火傷やホットスポットの問題を最小限に抑えるように設計されており、ユーザーや機器への損傷の可能性をさらに低減します。全体として、KLA/TENCOR 238は高度なマスクおよびウェーハ検査アセットであり、感度と精度を向上させた正確な画像を提供するように設計されています。このモデルは、品質保証と生産作業に適しており、マスクとウェーハの両方の高解像度画像を迅速かつ正確に提供します。装置の高度な機能と安全対策により、半導体デバイスのハイエンド技術を検査するための理想的なツールとなります。