中古 KLA / TENCOR 2367 #9293245 を販売中

KLA/TENCOR 2367マスクおよびウェーハ検査装置は、半導体製造プロセスを迅速かつ正確に分析するために設計された高度な自動ウェーハおよびマスク検査システムです。これは、完全に自動化された統合された機器、ソフトウェア、および光学ユニットを使用して、従来の検査方法よりも高い精度と速度で半導体ウェーハの視覚および計測の欠陥を検出します。KLA 2367検査機は、高解像度ウェーハ概要カメラ、自動光学測位（AOP）、パターン認識および欠陥認識ツールなどの高度な機能を備えています。フルフィールドイメージングサブシステムは、光学ビームスプリッタとCCDカメラを使用して、カメラの歪みを最小限に抑えながら優れた画像解像度とパターン認識を実現します。これにより、従来の検査技術よりも、あらゆる欠陥を迅速かつ簡単に検出できるようになります。TENCOR 2367の強力なAOP機能により、ターゲット位置から0。25 μ m以内の極めて正確な基板アライメントが可能です。さらに、このツールは、欠陥認識アルゴリズムと画像処理を使用してさまざまな種類の欠陥を識別する機能を備えています。パターン認識ツールは、従来の検査方法で検出されなかった欠陥など、異なるパターンに基づいて欠陥を検出することができます。このモデルでは、隣接するフィーチャー間の幾何学的距離、意図された形状からの変化、複数の視点または視点からのデバイスのフィーチャー間の距離などの重要な特徴の測定と分析も提供します。より詳細な分析を行うために、2367はまた、正確かつ正確な測定のための機能を備えた高度な計測パッケージを提供しています。装置の定量分析ツールは、欠陥追跡と評価、特徴/構造の特性評価を可能にします。さらに、特徴量や形状の変化を極めて正確に検出できる特徴解析ツールも提供しています。全体として、KLA/TENCOR 2367マスクおよびウェハ検査ユニットは堅牢な自動検査機であり、半導体メーカーの所有コストを削減し、収益性を向上させることができます。このツールの高度な機能と強力な解析ツールは、優れた精度と精度を提供しながら、迅速かつ容易な欠陥検出を可能にします。このように、KLA 2367は半導体製造プロセスの品質管理を保証します。