中古 KLA / TENCOR 2367 #9189551 を販売中
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販売された
ID: 9189551
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Patterned wafer inspection system, 12"
Wafer calibration kit including DSW & shiny
Hardware options:
Hermos (2 CID devices)
Advantag (2 CID devices)
KEYENCE BCR Singlewire (2 CID devices)
Interlocks:
Safety Interlock for open panel
Safety Interlock for lamp
Exhaust:
600 ft3/min
100 ft3/min
1300 ft3/min
Integrated mini-environment
FEC Computer system
Intel® Pentium® 4 CPU 3.00GHz
2GB Memory (RAM)
Dell computer system
Intel®Xeon™ CPU 3.4GHz
2.48GB Memory (RAM)
DVD ROM
Mouse
Keyboard
HSMS/GEM SEMI E37 Compliant ethernet interface:
HSMS (E5 / E30 / E37)
GEM/SECS Automation interface (E4 / E5 / E30)
SEMI E84
SEMI E116
Hokuyo sensors:
Overhead transport (OHT)
Remote guided vehicles (RGV/AGV)
Auto switch for dual use environments
Basic automation package: E39, E87, E90 (Carrier management/wafer tracking)
Advanced automation package: E40, E94 (Process job, control job)
Windows 2000 based operating system SP4
Spatial population analysis :
Power options:
Array segmentation
Patch images: 64x64
Pixelperfect
RBB
RBMT
Sensitivity tuner
NPA
Photo option:
FEM
PWQ
Interface:
Data transfer
DVD-R
Ethernet
Hardware optic :
BB Visible pixels (0.62 mm, 0.39 mm, and 0.25 mm)
BB / I-Line / G-Line UV pixels (0.20 mm, 0.16 mm, and 0.12 mm)
Edge contrastTM
1600 MPPS Image computer
Array and random modes
High mag review optics
Anti-blooming TDI
High resolution review camera
Facilities:
Power: 2V5W-N, 18KW
Vw: 25 in Hg
CDA: 5 Sft3/min
Missing parts:
(4) Image computer nodes
2007 vintage.
KLA/TENCOR 2367は、KLA株式会社が開発した効率的で高品質なマスクおよびウェハ検査装置です。KLA 2367は、高度な技術を使用して、ウェーハレベルおよびマスクレベルでの欠陥の迅速な検出と、結果の有益な分析を提供します。このシステムには、マスクの両側の仕様を個別に検出するデュアルビームレーザー投影ユニットが含まれており、マスクパターンの高速かつ正確な分析が可能です。さらに、TENCOR 2367は、散乱計などの高度な光学手法を多数統合し、検査の精度と最適化を確保するために複数の自動プロセスを備えています。2367は、ウェーハの高解像度イメージングを提供し、欠陥検出に関連する時間とコストを削減します。各ピクセルの強度レベルを変化させることで、マスク画像の微細な粒子や細い線などの微妙な欠陥を簡単に検出できます。また、マスク、サブピクセル欠陥、電気的および光学的欠陥、オーバーレイおよびオーバーレイの不整列の保護パターンまたは隠れパターンを検出することもできます。さらに、KLA/TENCOR 2367マシンは、マスクパターンと潜在的な改善の領域を識別する欠陥マップを生成することができます。KLA 2367ツールは、機能性と有効性を高めるいくつかの機能とオプションも提供しています。例えば、SEM（走査型電子顕微鏡）画像から3Dボリュームデータを生成できる強力な画像処理ソフトウェアが含まれています。また、カスタマイズ可能な測定温度設定を提供して、さまざまなウェーハで正確さを確保するだけでなく、ダスト検出領域、UVレーザー強度、露光時間などを制御する機能も提供します。さらに、ウェーハやマスクなどの各種サンプルに対応し、正確で高速な加工を実現します。TENCOR 2367は、最先端の技術を使用して欠陥を検出および分析する高度なマスクおよびウェーハ検査アセットです。これは、非常に有益な欠陥マップや画像を生成することができ、高速かつ信頼性の高い検出結果を提供します。また、精度と精度を確保するためにカスタマイズできるさまざまな機能も含まれています。2367は、高解像度の画像処理および画像処理機能を備えており、半導体およびマスク製造業界に最適です。
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