中古 KLA / TENCOR 2351 #9251384 を販売中

KLA/TENCOR 2351は、集積回路（IC）マスクおよび半導体ウェーハ上の物理的欠陥および汚染物を検出するために設計された自動マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、トランジスタゲート、オーバーレイ、相互接続などのICマスクおよびウェーハ上のパターンと個々のコンポーネントを測定することができます。このユニットは、差動干渉コントラスト（DIC）光学イメージングと自動プログラム可能なパターン認識アルゴリズムを組み合わせて、マスクまたはウェーハ上のコンポーネントを検査します。このマシンは、最大12インチのウェーハまたはマスクの表面を検査するように設計されており、簡単にIC製造ラインに統合することができます。DICイメージングによって得られた画像は、最初にツールの統合処理ユニットに送信され、さらなる分析が行われます。この処理ユニットは、傷、傷、汚染などの表面の変化だけでなく、欠陥を検出することができます。さらに、このアセットにはユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が含まれています。これにより、検査パラメータとテストに使用するアルゴリズムをカスタマイズできます。例えば、ユーザーは、異なるコントラストレベルまたは異なる領域でウェーハまたはマスクの特定の部分を検査することを選択することができます。また、ワイヤショーツや開放回路などの重要な欠陥を検出したり、接触ビアやパッドなどの小さな機能を検査するためにモデルをカスタマイズすることができます。さらに、KLA 2351はパターンシフトと劣化を識別することができます。また、ウェーハやマスクの粒子汚染も検出できます。本装置は、0。4ミクロン以下の小さな特徴を正確に捉え、解析する高解像度レンズを搭載しています。また、反射率0。2％以下の反射面の画像を撮影することができます。全体として、TENCOR 2351システムは、物理的欠陥、汚染、およびその他の不規則性のための集積回路マスクおよびウェーハを分析するための効果的なツールです。プログラム可能なパターン認識アルゴリズム、ユーザーフレンドリーなGUI、高解像度イメージング機能を備えたこのユニットは、自動IC検査および分析に最適です。