中古 KLA / TENCOR 2351 #293606934 を販売中

KLA/TENCOR 2351は、あらゆる製造欠陥に関する金型構造、層および情報の表面およびプロファイルの高分解能測定を提供するように設計された大手ウェーハおよびマスク検査装置です。この高度なシステムには、さまざまなデジタルイメージング、自動解析、および高度なウェーハ表面およびマスク検査技術が搭載されています。KLA 2351ユニットは、特徴寸法と材料を迅速かつ正確に検査し、欠陥保証と継続的なプロセス改善を支援することができます。TENCOR 2351にはマクロダイ検査機が搭載されており、3インチウエハで最大2000台のダイを全分解能で検査できます。2351の高度なイメージング技術により、最大8MPの画像を取得できます。KLA/TENCOR 2351は、サイドウォールの粗さ、以前のプロセス活動による欠陥、ダイシングの損傷、または望ましくないパターンなどの欠陥を検索することもできます。KLA 2351の高度なマスク検査ツールは、高性能のイメージングとスキャンでマスクの検査を可能にします。マスク検査用の光学系は、裏面画像やCD測定などの高解像度イメージング用に設計されています。2351maskアセットは、極めて精度と精度で最大2µmの機能のマスク画像を読み取ることができます。さらに、CD-SEMイメージングモデルを使用して、CDの不一致やCDの均一性などの基板欠陥をµm精度で監視することができます。TENCOR 2351には、微細な欠陥を自動的に識別し、検出された欠陥の性質を報告できる高度な自動欠陥解析装置も装備されています。今日の高度な半導体デバイスには、より高い分解能の半導体製造プロセスが必要です。2351には、粒子、ピット、ピット、その他の重要な表面欠陥を監視、測定、分類できる最先端のソフトウェアが装備されています。さらに、KLA/TENCOR 2351は、完全なデータ分析およびレポート機能を備えており、プロセスエンジニアは、自動欠陥解析、機器管理、およびプロセス制御の間を簡単に移動できます。要するに、KLA 2351は、ウェーハとマスクを検査するための真に高度で機能豊富なシステムです。TENCOR 2351は、高解像度イメージング、自動欠陥解析、高度なウェーハ表面およびマスク検査機能を提供し、プロセス制御および欠陥保証を支援します。さらに、2351は自動化された解析ユニットにより、微細な欠陥を容易かつ正確に検出することができ、プロセスエンジニアに可能な限り最高の保証と制御を提供します。