中古 KLA / TENCOR 2350 #9270188 を販売中
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販売された
ID: 9270188
ウェーハサイズ: 8"-12"
ヴィンテージ: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(48) IMC Boards
Does not include MM2S Board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Cooling stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Lower monitor
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 5 V
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board with valve
AF LED 1 Board
LP2 Cover
Y1 Flex board
(2) FVPA Boards
Robot controller
Fan Filter Unit (FFU)
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350は、半導体デバイス製造用に設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。半導体デバイスの表面における汚染物質や損傷の最小粒子をすばやく特定し、特定するために、欠陥を自動的に画像化、可視化、特性評価するためのいくつかの技術と技術を組み合わせています。KLA 2350光学システムは、デュアル光源コヒーレント照明と高いダイナミックレンジ画像を使用して、手動検査の必要性を低減し、表面および特徴の最適化されたビジュアルを作成します。また、様々なウエハ基板に自動的に適応することが可能で、向きやサイズに関係なく高解像度の画像をキャプチャすることができます。また、干渉顕微鏡イメージングユニットは4X倍率で高精度なデータキャプチャと解析が可能です。KLA独自のマルチコマンドベクトルプロセッサ（MCVP）を使用して、キャプチャされた画像をリアルタイムで評価し、ローカライズされた欠陥を検索します。この直接局所欠陥検出の原理により、データ全体のサイズが小さくなり、従来のSEM/EDSベースのツールと比較して迅速かつ正確な解析が可能になります。また、幅広いサンプルタイプに対応しているため、幅広い用途に対応できます。さらに、TENCOR Contamination Area Mapping （CAM）機能は、TENCOR 2350分析機能と完全に統合されて、ウェーハ上の総欠陥を検出および調査し、有意義な情報を提供し、検査時間とコストを削減します。アセットはFIPS準拠でもあるため、すべてのデータは政府の基準に従って不正アクセスから保護されています。全体的に2350は、効率的な方法で最小の欠陥を検出して検査するように設計されたインテリジェントで高性能な表面材料検査モデルです。強力な光学技術と高品位解析技術を組み合わせることで、生産および研究作業に必要な精度とデータを提供します。
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