中古 KLA / TENCOR 2139 #9351630 を販売中

KLA/TENCOR 2139マスクおよびウェーハ検査装置は、マスクおよびウェーハの歩留まりおよびプロセス制御のためのユニークなソリューションです。KLA 2139システムは、高い精度でパターン認識を自動化し、高速かつ再現性の高い解析を可能にします。このユニットは、リトグラフィックイメージングおよび分析機、マスクアライナウェハスキャナービーム、統合検査ツールで構成されています。リソグラフィー画像資産には、いくつかの洗練された光学系と照明システムがあり、非常に小さな領域でも小さな欠陥を検出することができます。マスクアライナーは、ラインエッジ粗度（LER）などの微細構造やサブミクロンパターンの変化を検出することができます。ウェハスキャナビームは、マスクまたはウェハ構造の高解像度画像を作成し、欠陥を検出するために分析します。このモデルのアルゴリズムは、0。2ミクロンから10ミクロンまでの欠陥を検出することができ、比類のない検出精度と再現性を提供します。本装置の画像処理技術は、正確な欠陥検出を可能にし、正確なマスクおよびウェーハ検査を可能にします。このシステムはまた、単一および複数のパターンから幾何学的パターン、およびプロセス生成された欠陥まで幅広いバリエーションを検出するための汎用性を提供します。さらに、このユニットは、露出前と露出後の両方の条件でブランクを検査するなど、さまざまな方法で欠陥を特性化および分析することができます。さらに、プログラミングの柔軟性を備えた画像解析を可能にし、ユニークなユーザー要件に対応できるように設計された解析スイートを備えています。最後に、このマシンの使いやすいGUIにより、簡単な設定、データ操作、高度な分析が可能になります。包括的なレポートおよびログ機能の一部として、欠陥のサイズ、場所、種類、量、原因など、多数のメトリクスを提供しています。さらに、検査されたマスクまたはウェーハの表示3D-surface提供し、セクターベースのレポートを生成することもできます。全体として、TENCOR 2139は、効率的で再現性のある欠陥検査機能を備えた比類のないマスクおよびウェハ検査ツールを提供します。また、あらゆるユーザーのニーズに対応する統合欠陥分析およびレポート作成ソリューションも提供しています。これは、歩留まりとプロセス制御を確保するためのユニークなソリューションであり、ユーザーは幅広いデバイスでパフォーマンスを保証できます。