中古 KLA / TENCOR 2139 #9227709 を販売中

KLA/TENCOR 2139は、最新の半導体プロセス形状の高速、高精度、大容量の要件を満たすように設計された、次世代のマスク&ウェハ検査装置です。KLA 2139は、4次元イメージングステーションを備えており、極めて精度と解像度の高いシャープな3D画像を生成し、潜在的な欠陥を正確に検出するための高度なパターン認識ソフトウェアを備えています。単一の画像で最大4つの別々の検査エリアを同時に検査することができ、データ分析と解釈を効率的かつ正確に行うように設計された強化されたユーザーインターフェイスを備えています。このシステムは、最適化されたPythonベースの画像処理パイプラインを使用して、個々の欠陥や破片の微細な詳細をキャプチャするために、ピンポイントサブピクセルデータキャプチャを採用しています。TENCOR 2139のイメージングコンポーネントには、明るいフィールドと暗いフィールドの両方の検出器アレイと、高速なデータ取得とイメージングのために設計された最適化された光学ユニットが含まれています。また、熱ノイズを最小限に抑え、明るさを最大化して高品質のイメージングを実現するために、熱電気冷却EMCCDを搭載しています。高品質の3Dイメージングを提供するだけでなく、高速で信頼性が高く使いやすいように設計されています。高精度のステージを備えており、複数の検査を迅速かつ正確に行うことができます。また、超小粒子の検査を可能にする多方向アパーチャを装備し、自動欠陥レビュー・ステーションと統合して処理能力をさらに向上させることができます。2139は、イメージング機能に加えて、検査タスクの広い範囲を処理するように設計されています。独自の全方向マッチングアルゴリズムにより、特徴のパターンを比較し、検査マスク内に迅速かつ正確に配置することができます。また、インテリジェントアルゴリズムによる欠陥分類もサポートしており、さまざまなレベルの信頼性でリアルタイムで欠陥を検出することができます。最後に、レイヤー厚の測定と解析機能と欠陥情報を実行して、多目的なレポートと分析セットを生成することができます。KLA/TENCOR 2139は、高解像度イメージング、高度なパターン認識アルゴリズム、高速処理速度の組み合わせにより、半導体業界におけるマスクおよびウェハ検査の標準となっています。業界トップクラスの性能と使いやすさを備え、コスト効率に優れたアップスケールの半導体製造に最適です。