中古 KLA / TENCOR 2135 #9383823 を販売中

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ID: 9383823
ウェーハサイズ: 2" -8"
ヴィンテージ: 1997
Wafer inspection system, 2" -8" Updated from 2115 Cassette to cassette CE Marked No missing parts Manuals Power requirements: 208 V, 10.0 A - 30.0 A (2), 3 Phase, 50/60 Hz 1997 vintage.
KLA/TENCOR 2135マスクおよびウェーハ検査装置は、パターン化されたマスクおよび半導体ウェーハを検査するために設計された汎用性の高い自動システムです。このユニットには、明るいフィールドと暗いフィールドの斜めの光の検査方法の両方が含まれています。このマシンは、差動モード天文台とウェーハ/マスク欠陥レビューステーションの2つの相互依存コンポーネントで構築されています。Differential Mode Observatory (DMO)は、ブライトフィールド/ダークフィールドのイメージングツールとウェーハ/マスクステージを組み合わせて、複数の線形および斜めのレーザー照明角度をサポートします。有限欠陥を検出し定量化できる高解像度カメラとイメージングアセットを搭載しています。Wafer/Mask Defect Review Stationには電動のxyステージがあり、ウェーハとマスクの両方をスキャンして欠陥を確認できます。ステーションには複数の光源があり、ブライトフィールドやダークフィールドの照明など、さまざまな角度でウェーハ/マスクを照らしています。これにより、高分解能で視野の広い欠陥検査を小型および大規模なデバイスで行うことができます。KLA 2135は、電気ショート回路、リソグラフィー、フォトレジスト欠陥、フィルムクラッキング、パターンミスなど、さまざまな種類のウェーハ/マスク欠陥および欠陥を調査するために設計されています。248mm〜500mmウェーハ、4インチ〜8インチマスクの検査も可能です。TENCOR 2135にはWebベースの分析およびレポートツールが付属しており、オペレータはモデルの検査プロセスをリアルタイムで把握できます。これにより、手動でログを記録する必要がなくなり、生成されたデータを迅速かつ簡単に分析できます。全体として、2135のマスクおよびウェーハ検査装置は、欠陥検出および欠陥解析を自動化するための貴重で汎用性の高いシステムです。それは現代生産のための不可欠なツールであり、収量と製品の品質を向上させるのに役立ちます。
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