中古 KLA / TENCOR 2135 #192496 を販売中

KLA/TENCOR 2135は、あらゆる基板上の粒子レベルの汚染を検出および測定する高度なアルゴリズム技術を使用して、高精度の欠陥検出を提供するマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、優れた画質、高速スループット、および改善されたプロセス最適化を提供します。KLA 2135は、優れたダイナミックレンジ画像を提供し、レーザースキャン、電子ビームスキャン、パラメトリック解析など、さまざまな高解像度スキャン技術を使用しています。TENCOR 2135ユニットは、電子部品の正確で信頼性の高い検査を可能にする多種多様な高性能機能を提供します。このマシンは、高品質の画像でサブナノメートルの欠陥を検出することができます。これにより、粒子汚染、ボイド、傷、その他の光学汚染物質など、幅広いプロセス関連の欠陥の検出および測定に最適です。このツールはまた、業界をリードするスキャナ技術と高度な画像解析アルゴリズムを提供し、高い歩留まり、正確なレビュー、位相シフト解析を可能にします。アセットの高度な欠陥分類機能により、ユーザーは表面レベルの欠陥を特定して分類することができますが、マルチスペクトルイメージング技術により、さまざまな種類のマスクタイプを正確な結果で検査することができます。このモデルはまた、ユーザーが任意のイメージングプロセスから得られた結果に基づいてプロセスを迅速に分析し、最適化することができる自動プロセス最適化機能を提供しています。2135の装置はまた高いスループットの点検機能を特色にし、手動介入のための必要性の速く、有効なスキャンを可能にします。また、欠陥追跡とドキュメンテーションシステムが内蔵されており、複数の画像から欠陥を追跡およびレビューすることができます。KLA/TENCOR 2135ユニットは、正確で信頼性の高い欠陥の検出と比較を保証するために、高度なアルゴリズム技術を使用して欠陥の検出と特性評価を行います。これらのアルゴリズムは、欠陥識別と認定のプロセスにおける効率と精度を最大限に高め、優れた画質とプロセス最適化を保証するように設計されています。全体として、KLA 2135マシンは、製造環境における欠陥検出と特性評価のための高度で費用対効果の高いソリューションです。優れた画質と高速スループットで高精度の欠陥検出を実現し、プロセスの自動最適化と効率的な欠陥追跡を実現します。品質と性能を組み合わせることにより、TENCOR 2135ツールは、高度で効率的で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査資産を探しているすべてのメーカーにとって理想的な選択肢です。