中古 KLA / TENCOR 2132 #9389837 を販売中

KLA / TENCOR 2132
ID: 9389837
Wafer inspection system.
KLA/TENCOR 2132は、プロセス制御と歩留まり管理の両方のために設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。マスク、ウェハー、フォトマスクのサイズの範囲の欠陥を検出し、測定できる完全に自動化された高度なイメージングシステムです。このユニットは、高いスループットの光学設計、正確なスキャン、自動オートフォーカス機能を使用して、1秒間に1〜2サンプルの平均スループットで鮮明で均一な画像を取得します。ハードウェアには、マルチスペクトルLED照明とグローバルシャッターCMOSセンサーを備えたカメラが含まれています。マシンオプティクスは、高解像度イメージングと大面積センシングを組み合わせて、迅速なサンプリングと潜在的な欠陥の検出を可能にします。モーションコントロールと精密センサーにより、検査サイクル全体でサンプルの動きを最適化し、一貫性のある正確な画像キャプチャを実現します。このツールは、TrueSpectrumフィーチャーベースのアルゴリズムを使用した正確な画像解析も備えています。特別に設計されたアルゴリズムにより、誤報を最小限に抑えて正確な欠陥検出を可能にし、速度と精度を実現します。このアルゴリズムは、フィーチャー寸法と幾何学的特性を測定することができ、リアルタイムの欠陥サイジングと分類を可能にします。KLA 2132はユーザーフレンドリーなインターフェイスで設計されており、簡単なセットアップと切り替え、簡単なデータ収集、分析、レポート作成が可能です。このアセットは直感的なレポート機能も備えており、ユーザーはさまざまなレポートのさまざまなフォーマットを生成できます。後処理画像解析と欠陥サイジングは、オンザフライ調整のために完全に自動化されています。TENCOR 2132は、単なるマスクとウェーハ検査モデルではありません。LCDやOELの品質管理、半導体製造プロセス、リソグラフィ露光の品質保証、フォトマスクやレチクルパターンのレビュー、CCDの欠陥検出など、幅広い生産およびエンジニアリング用途に使用できます。オプションの「システムインテグレーション」インターフェースにより、装置はユーザーの既存の生産システムまたはエンジニアリングシステムと統合することができ、プロセスフローの制御、コンポーネントの処理の改善、歩留まりの最適化を実現します。
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