中古 KLA / TENCOR 2132 #9009026 を販売中

KLA/TENCOR 2132は、非常に反復性が高く複雑なウェハおよびマスク構造を検査および分析するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。KLA 2132システムは、精密で効率的なマスクとウェーハ検査を誇り、最先端の電子デバイスの製造を可能にします。単位はミクロンレベルの特徴を分析することができる低雑音の光学センサーから成っています。また、さまざまなマーキングやパターンの構造を検査するための高解像度スキャンヘッドも含まれています。TENCOR 2132マシンは、欠陥検出および故障解析、マクロ検査、ギャップ検証など、幅広いアプリケーションをサポートしています。4種類の構造から最大12個の欠陥を同時に検出できます。さらに、2132は複数のレイヤーやイメージアレイを含む最も複雑な構造でも検査することができます。このツールのカスタム設計された低ノイズ光学設計は、従来の光検出器では識別できない潜在的な欠陥や小さなチップを検出することができます。高解像度スキャンヘッドは、構造の正確かつ詳細な分析と自動画像比較を提供します。アセットのウェハレベル検出能力により、最適な歩留まりが保証されます。このモデルには直感的なユーザーインターフェイスも含まれており、簡単で簡単なコントロールパネル操作を提供します。この装置はレシピ転送機能を自動化しており、数多くの検査レシピと操作がプリロードされています。また、特許取得済みのナビゲーターツールを備えており、体系的で再現性のある検査を可能にします。KLA/TENCOR 2132は、高度なレポートおよびフィルタリング機能もサポートしています。詳細画像レビューソフトウェアを搭載しており、rawまたはraster形式の詳細画像解析が可能です。フルスケールの解像度、欠陥分類、最大コントラスト設定をサポートします。また、高度なデータ分析とレポート機能を備えており、結果の精度を大幅に向上させます。KLA 2132は、最も厳格なマスクおよびウェーハ検査要件向けに設計されており、優れた品質保証結果を提供します。高度な光学および欠陥検出システムとユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えたTENCOR 2132ユニットは、優れたデバイス製造のための信頼性が高く効率的なツールです。これは、今日の高度な半導体産業で使用するための理想的な選択肢です。