中古 KLA / TENCOR 2132 #293815450 を販売中

KLA/TENCOR 2132は、半導体生産の欠陥を発見し、歩留まりを改善するために使用される信頼性の高いマスクおよびウェハ検査装置です。高度な光学、画像処理、高度なレーザー測定技術を組み合わせて、マスクとウェーハ表面全体をナノメートルスケールで検査します。KLA 2132は、KLA SmartScribe非線形レーザー干渉計に基づいています。このシステムは、ウェーハまたはマスク上の欠陥および不良の両方の特徴のナノメートルスケール測定を収集し、正確に報告するために使用できます。表面全体を1つのパスでスキャンすることができ、表面全体の明確なイメージを作成します。TENCOR 2132は、ナノメートルレベルのレーザー照明と動的画像処理を組み合わせた特許取得済みの技術を使用して、欠陥やその他の機能を正確に測定できる信号対ノイズ比を向上させます。高度な光学系に加えて、2132は欠陥検出用のセグメント化されたコントラストパターンも備えています。この機能は、ピクセル検出を使用して、最高のコントラストで領域を分離し、より正確な欠陥識別を可能にします。これは、より標準的な単一画像パターン認識システムとは対照的で、欠陥の検出精度が低下します。このユニットには、ステッチとオートフォーカスのための高度な高速アルゴリズムも装備されています。これにより、オートフォーカスが高速化され、検査プロセス全体が高速化され、より大きなマスクをスキャンする際に光学系を再フォーカスする必要がなくなります。KLA/TENCOR 2132は、生産環境に合わせてカスタマイズできるさまざまな機能を提供します。ユーザー調整可能な光学系は、さまざまなマスクや基板形状に最適化できますが、マシンのソフトウェアはさまざまな生産サードパーティ製モニタリングシステムと互換性があります。全体として、KLA 2132は、歩留まりを最大化し、生産コストを削減する、使いやすく信頼性の高いマスクおよびウェハ検査ツールです。その先進的な光学、画像処理、およびダイナミックレーザー測定の組み合わせは、再コーカスの必要性を最小限に抑え、ナノメートルの測定に最高の精度を提供します。欠陥検出のためのセグメント化されたコントラストパターンと高速オートフォーカスアルゴリズムは、その有用性をさらに高め、半導体の生産ニーズにとって貴重な資産となっています。